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高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究: 合成并表征了 N-十六烷基丙烯酰胺(HDA) 和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯(BPhMA)的共聚物 p(HDA-BPhMA)s．当 HDA 含量较高时,共聚物可在气 /液界面上形成稳定,排列紧密的单分子薄膜,并可以 Y 型膜...; 曾国良李铁生许文俭张素华王筠赵娜吴养洁; 关键词：光刻刻蚀; 文献传递

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究: 2007年; 合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。; 曾国良李铁生许文俭张素华王筠赵娜吴养洁; 关键词：光刻刻蚀

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河南省自然科学基金(2007150042)