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国家自然科学基金(5087214)
作品数:
1
被引量:4
H指数:1
相关作者:
贾海强
马紫光
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徐培强
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2011
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SiN_x插入层的生长位置对GaN外延薄膜性质的影响(英文)
被引量:4
2011年
系统研究了纳米量级的多孔SiNx插入层生长位置对高质量GaN外延薄膜性质的影响。高分辨X射线衍射测量结果表明:SiNx插入层生长在GaN粗糙层上能够得到最好的晶体质量。利用测量结果分别计算出了螺位错和刃位错的密度。此外,GaN薄膜的光学、电学性质分别用Raman散射能谱、低温光致发光能谱和霍尔测量的方法进行了表征。实验发现:SiNx插入层的生长位置对GaN薄膜的应变大小基本没有影响;但插入层的位置改变了薄膜中的本征载流子浓度。
马紫光
王文新
王小丽
陈耀
徐培强
江洋
贾海强
陈弘
关键词:
GAN
SINX
高分辨X射线衍射
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