教育部“新世纪优秀人才支持计划”(NCET-06-0337)
- 作品数：2 被引量：5H指数：2
- 相关作者：耿学文李美成尚春宇更多>>
- 相关机构：哈尔滨工业大学华北电力大学更多>>
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- 相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
- Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层被引量：3
- 2010年
- 制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率。基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型(100)单晶硅表面溅射了一层厚度为1～5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300～800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构。通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高。研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路。
- 耿学文李美成尚春宇
- 关键词：硅衬底催化剂
- 贵金属粒子催化刻蚀制备硅太阳能电池减反射层研究进展被引量：3
- 2010年
- 贵金属纳米粒子催化性能的研究已成为当前新材料及能源科学研究领域的热点之一。最近,在用贵金属粒子作为催化剂,辅助刻蚀硅衬底制作太阳能电池减反射层方面开展了大量的研究工作。综述了近年来贵金属粒子催化刻蚀硅制备减反射层的研究进展,分析了贵金属粒子的催化机理和减反射层制作的影响因素,展望了贵金属粒子催化刻蚀薄膜太阳能电池硅衬底研究的发展趋势。
- 耿学文李美成
- 关键词：催化剂硅衬底
- LPCVD制备微晶硅薄膜及热处理工艺研究
- 采用低压化学气相沉积(LPCVD)方法在单面抛光的n型(100)4寸硅片上沉积了微晶硅薄膜,沉积薄膜前用湿氧氧化法在硅片表面氧化SiO2层作为扩散阻挡层。用普通氧化铝管式炉加热处理制成的微晶硅薄膜制备多晶硅薄膜。选取了6...
- 袁媛耿学文李美成
- 关键词：多晶硅薄膜退火温度
- 文献传递
- 一种新型的高双折射光子晶体光纤
- 开展了高双折射光子晶体光纤的结构设计研究,在保证高双折射性能的前提下,实现了近零色散平坦和低限制损耗特许。八边形结构的光子晶体光纤,以其优异的色散平坦特性和低限制损耗特性引起了广泛的关注和研究。为我们设计新型的高双折射光...
- 石飞飞李美成赵宇赵连城
- 关键词：光子晶体光纤双折射色散限制损耗有限元方法
- 文献传递
- 退火对ZnO/LiNbO3中Nb扩散的影响
- 采用磁控溅射的方法在LiNbO3衬底上成功的制备了高度择优取向的ZnO薄膜。通过退火热处理研究发现,经过低于550℃退火后,由于晶粒开始长大导致一些晶粒偏离了最初的生长方向,形成了一些新的ZnO衍射峰;经过700℃退火的...
- 张森李美成国凤云赵连城
- 关键词：ZNO退火
- 文献传递
