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国家自然科学基金(51361022)

作品数:6 被引量:6H指数:2
相关作者:周浪肖友鹏王涛高超魏秀琴更多>>
相关机构:南昌大学江西豪安能源科技有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电气工程电子电信理学动力工程及工程热物理更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电气工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电池
  • 2篇太阳电池
  • 2篇
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇电导
  • 1篇电导率
  • 1篇动力学
  • 1篇性质分析
  • 1篇异质结
  • 1篇异质结太阳电...
  • 1篇优化设计
  • 1篇载流子
  • 1篇直拉单晶硅
  • 1篇位错
  • 1篇位错环
  • 1篇物理机制
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体生长
  • 1篇硅晶

机构

  • 4篇南昌大学
  • 1篇江西豪安能源...

作者

  • 4篇周浪
  • 2篇王涛
  • 2篇肖友鹏
  • 1篇吴小元
  • 1篇陈文浩
  • 1篇周耐根
  • 1篇魏秀琴
  • 1篇张弛
  • 1篇高超

传媒

  • 2篇物理学报
  • 2篇人工晶体学报
  • 2篇Chines...

年份

  • 2篇2017
  • 2篇2015
  • 2篇2014
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
Enhanced near-infrared responsivity of silicon photodetector by the impurity photovoltaic effect
2015年
The near-infrared responsivity of a silicon photodetector employing the impurity photovoltaic (IPV) effect is investigated with a numerical method. The improvement of the responsivity can reach 0.358 A/W at a wavelength of about 1200 nm, and its corresponding quantum efficiency is 41.1%. The origin of the enhanced responsivity is attributed to the absorption of sub-bandgap photons, which results in the carrier transition from the impurity energy level to the conduction band. The results indicate that the IPV effect may provide a general approach to enhancing the responsivity of photodetectors.
袁吉仁黄海宾邓新华梁晓军周耐根周浪
关键词:RESPONSIVITYPHOTODETECTOR
β-FeSi_2 as the bottom absorber of triple-junction thin-film solar cells: A numerical study
2014年
Using β-FeSi2 as the bottom absorber of triple-junction thin-film solar cells is investigated by a numerical method for widening the long-wave spectral response. The presented results show that the β-FeSi2 subcell can contribute 0.273 V of open-circuit voltage to the a-Si/μc-Si/β-FeSi2 triple-junction thin-film solar cell. The optimized absorber thicknesses for a- Si, μ-Si, and/3-FeSi2 subcells are 260 nm, 900 nm, and 40 nm, respectively. In addition, the temperature coefficient of the conversion efficiency of the a-Si/μc-Si//3-FeSi2 cell is -0.308 %/K, whose absolute value is only greater than that of the a-Si subcell. This result indicates that the a-Si/μc-Si/β-FeSi2 triple-junction solar cell has a good temperature coefficient. As a result, using β-FeSi2 as the bottom absorber can improve the thin-film solar cell performance, and the a-Si/μc-Si/β-FeSi2 triple-junction solar cell is a promising structure configuration for improving the solar cell efficiency.
袁吉仁沈鸿烈周浪黄海宾周耐根邓新华余启名
关键词:Β-FESI2
载流子选择性接触:高效硅太阳电池的选择被引量:3
2017年
太阳电池可看成由光子吸收层和接触层两个基本单元组成,接触层是高复合活性金属界面和光子吸收层之间的区域.为了进一步提高硅太阳电池的转换效率,关键是降低光子吸收层和接触之间的复合损失.近年来,载流子选择性接触引起了光伏界的研究兴趣,其被认为是接近硅太阳电池效率理论极限的最后的障碍之一.本文分析了三种类型的载流子选择性接触:在光子吸收层与金属界面之间引入薄的重掺杂层,即所谓的发射极或背面场;利用两种材料之间的导带或价带对齐;利用高功函数的金属氧化物与晶硅接触从而在晶硅中感应能带弯曲.基于一维太阳电池模拟软件wx AMPS,模拟了扩散同质结硅太阳电池[结构为(p^+)c-Si/(n)c-Si/(n^+)c-Si]、非晶硅薄膜硅异质结太阳电池[结构为(p^+)a-Si/(i)a-Si/(n)c-Si/(i)a-Si/(n^+)a-Si]和氧化物薄膜硅异质结太阳电池[结构为(n)MoO_x/(n)c-Si/(n)TiO_x]暗态下的能带结构和载流子浓度的空间分布,其中c-Si为晶硅;a-Si为非晶硅;(i),(n)和(p)分别表示本征、n型掺杂和p型掺杂.模拟结果表明:载流子选择性接触的核心是在接触处晶硅表面附近形成载流子浓度空间分布的不对称进而使得电导率的不对称,形成了对电子的高阻和空穴的低阻或者对空穴的高阻和电子的低阻,从而让空穴轻松通过同时阻挡电子,或者让电子轻松通过同时阻挡空穴,形成空穴选择性接触或者电子选择性接触.
肖友鹏高超王涛周浪
关键词:硅太阳电池
硅异质结太阳电池的物理机制和优化设计被引量:2
2017年
硅异质结太阳电池是一种由非晶硅薄膜层沉积于晶硅吸收层构成的高效低成本的光伏器件,是一种具有大面积规模化生产潜力的光伏产品.异质结界面钝化品质、发射极的掺杂浓度和厚度以及透明导电层的功函数是影响硅异质结太阳电池性能的主要因素.针对这些影响因素已经有大量的研究工作在全世界范围内展开,并且有诸多研究小组提出了器件效率限制因素背后的物理机制.洞悉物理机制可为今后优化设计高性能的器件提供准则.因此及时总结硅异质结太阳电池的物理机制和优化设计非常必要.本文主要讨论了晶硅表面钝化、发射极掺杂层和透明导电层之间的功函数失配以及由此形成的肖特基势垒;讨论了屏蔽由功函数失配引起的能带弯曲所需的特征长度,即屏蔽长度;介绍了硅异质结太阳电池优化设计的数值模拟和实践;总结了硅异质结太阳电池的研究现状和发展前景.
肖友鹏王涛魏秀琴周浪
关键词:太阳电池物理机制优化设计
应变对硅晶体生长影响的分子动力学模拟研究被引量:1
2014年
基于Tersoff势描述的硅原子间相互作用,通过分子动力学方法模拟考察了在垂直于生长方向上分别对晶体施加了不同应变时,硅沿[100]和[112]晶向的晶体生长。结果显示,在压应变条件下,随着应变的增大晶体生长速率减小;而在拉应变条件下,在小应变范围内,晶体生长速率随应变增大并不减小,甚至还可能增大,只有当应变达到一定程度时,晶体生长速率才会随着应变的增大而减小;拉应变对[112]方向生长中液-固界面的形态也产生了显著影响。
吴小元张弛周耐根周浪
关键词:晶体生长分子动力学
直拉单晶硅片“黑心”现象性质分析
2015年
对一种黑心片样品进行了分析。在确认黑心区为低少子寿命区的基础上,发现其电阻率明显偏高;发现黑心区经Secco刻蚀后,表面密布重叠圆形蚀坑,但与普通位错蚀坑有明显特征性区别;从其密度、形状与出现条件来看,它与电子半导体业中普遍报告的氧化堆垛层错(OSF)也不一致;进一步发现黑心区经Sirtle刻蚀后,表面呈现典型的大小明显不同的两种漩涡缺陷蚀坑,其密度明显低于上述Secco蚀坑。根据所得结果推测:黑心区主要密布一种性质上与普通位错相近,而所造成晶格畸变特征与范围不同于普通位错的晶格缺陷,它不属于已知的OSF微缺陷,而可能是一种由结晶生长过程中过饱和氧沉淀诱发形成的位错环;此外,黑心区还含有少量漩涡缺陷。
陈文浩凌继贝周浪
关键词:单晶硅黑心位错环
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