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国家自然科学基金(60025409)

作品数:21 被引量:77H指数:5
相关作者:徐现刚胡小波王继扬蒋民华董捷更多>>
相关机构:山东大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划山东省优秀中青年科学家科研奖励基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 21篇期刊文章
  • 13篇会议论文

领域

  • 17篇理学
  • 13篇电子电信
  • 7篇一般工业技术

主题

  • 9篇单晶
  • 7篇SIC单晶
  • 7篇6H-SIC
  • 6篇碳化硅
  • 4篇微管
  • 4篇晶体
  • 4篇SIC
  • 3篇大直径
  • 3篇晶片
  • 2篇单晶片
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化硼
  • 2篇溶剂
  • 2篇溶剂热
  • 2篇溶剂热法
  • 2篇生长速率
  • 2篇碳化硅单晶
  • 2篇热法
  • 2篇小角度晶界
  • 2篇立方相

机构

  • 28篇山东大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 14篇徐现刚
  • 11篇王继扬
  • 11篇胡小波
  • 11篇蒋民华
  • 8篇李现祥
  • 8篇董捷
  • 7篇韩荣江
  • 6篇李娟
  • 5篇王丽
  • 4篇姜守振
  • 3篇崔得良
  • 2篇展杰
  • 2篇郝霄鹏
  • 2篇李玲
  • 2篇刘喆
  • 1篇赵守仁
  • 1篇陈秀芳
  • 1篇唐喆
  • 1篇田玉莲
  • 1篇董守义

传媒

  • 6篇人工晶体学报
  • 6篇中国硅酸盐学...
  • 5篇功能材料
  • 3篇Journa...
  • 2篇Journa...
  • 2篇第五届中国功...
  • 1篇Journa...
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇物理
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2007
  • 4篇2006
  • 2篇2005
  • 14篇2004
  • 9篇2003
  • 3篇2002
  • 1篇2001
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
金刚石线锯切割大直径SiC单晶被引量:23
2005年
采用金刚石线切割大直径的SiC单晶,研究了金刚石线锯的切割机理和切割参数,给出切割SiC单晶的实验结果。研究了金刚石线的寿命及各切割参数对线径减少量、翘曲度、表面粗糙度的影响。用光学显微镜观察了磨损的金刚石线和切割表面。
陈秀芳李娟马德营胡小波徐现刚王继扬蒋民华
关键词:SIC翘曲度
一种基于能带工程设计的CaAsSb/InP异质结双极晶体三极管
2002年
异质结晶体三极管 (HBT)的性能与其材料体系密不可分 ,利用能带工程可以大大优化器件的结构 ,提高器件性能 .文章从分析HBT的能带结构及设计要求入手 ,介绍了一种利用能带工程设计的基于GaAsSb InP材料体系的新型HBT器件的结构及其性能 ,分析了该器件与其他材料体系器件相比所具有的优异特性 ,说明了对HBT的各区材料 ,其带边的相对位置所起的重要作用 .最后 ,文章还报道了近期的实验情况 ,说明了GaAsSb
刘喆唐喆崔得良徐现刚
关键词:HBT
InP-to-InGaAs interfacial strain grown by using tertiarybutylarsine and tertiarybutylphosphine被引量:1
2002年
Lattice-matched InGaAs/InP heterostructures have been grown by using metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE) with tertiarybutylarsine (TBAs), tertiarybutylphosphine (TBP) as the group Ⅴ sources. The results of X-ray diffraction on InGaAs/InP single herterostructure show that there is a compressive-strained interfacial layer at the InP-to-lnGaAs interface. X-ray diffraction of InGaAs/InP superlattices is successfully simulated by using the same interfacial layer. TBAs purging of InP surface has a significant influence on the interfacial strain. A novel gas switching sequence, which switches group Ⅲ to the run line earlier than TBAs, is proposed to reduce this interfacial strain. As a result,the average compressive strain of superlattices decreases, and a blue shift of photoluminescence (PL)peak energy and narrowing in PL width are obtained.
徐现刚崔得良唐喆郝霄鹏K.Heime
6H-SiC单晶的生长与缺陷被引量:7
2004年
采用升华法 ,在一定的温度、气体压力和流量的条件下 ,生长了尺寸 5 0 .8mm的 6HSiC单晶。利用光学显微术观察了原生晶体的表面形貌 ,发现了微管在晶体表面的露头点具有明显的多个螺位错成核特征。采用透射模式对抛光晶片进行观察 ,发现了SiC晶体内的典型缺陷 ,如 :负晶、微管、碳颗粒等 ,并对它们的形成机理进行了讨论。
胡小波徐现刚王继扬韩荣江董捷李现祥蒋民华
关键词:微管
6H-SiC单晶(0001)Si-面的表面生长形貌被引量:3
2004年
利用光学显微镜的反射模式观察了升华法生长的 6H SiC单晶 (0 0 0 1)Si 面的生长形貌 ,应用台阶仪测定了生长台阶高度。实验发现 ,6H SiC单晶的生长台阶呈螺旋状 ,生长台阶呈现出了韵律束合现象。在单晶中间部分 ,生长台阶稀疏 ,台面较宽 ,约 80 μm左右 ,台阶高度较小 ,约 2 0~ 5 0nm ,比较宽的台面上存在小生长螺旋。外围单晶区域 ,生长台阶比较密集 ,其台阶高度较大 ,约 30 0~ 70 0nm ,台面宽度较小 ,约 2~ 5 μm。生长台阶在前进过程中受单晶中的微管缺陷影响 。
韩荣江王继扬胡小波董捷李现祥李娟王丽徐现刚蒋民华
关键词:6H-SIC半导体材料碳化硅
Etching Study of SiC Wafers
2006年
SiC substrates grown by the sublimation method still have high densities of structural defects such as dislocations, micropipes, low-angle grain boundaries, macrodefects and polytypes. Wet etching was effectively used to study the defects of SiC. Etch pit shapes of defects and their origins were discussed. Most of the defects originate in the initial growth stage. Thus to optimize the early growth conditions especially the temperature distribution is a crucial problem.
Li Juan Wang Yingmin Chen Xiufang Xu Xiangang Hu Xiaobo Jiang Minhua
关键词:DEFECTSETCHINGSIC
2H-SiC Dendritic Nanocrystals In Situ Formation from Amorphous Silicon Carbide under Electron Beam Irradiation
2006年
Under electron beam irradiation, the in-situ formation of 2H-SiC dentritic nanocrystals from amorphous silicon carbide at room temperature was observed. The homogenous transition mainly occurs at the thin edge and on the surface of specimen where the energy obtained from electron beam irradiation is high enough to cause the amorphous crystallizing into 2H-SiC.
Li Xianxiang Hu Xiaobo Jiang Shouzheng Dong Jie Xu Xiangang Jiang Minhua
关键词:BEAMIRRADIATIONDENDRITICAMORPHOUSCARBIDE
高分辨X射线衍射法研究碳化硅单晶片中的多型结构
碳化硅(SiC)作为第三代宽带隙半导体材料,由于具有宽带隙、高热导率、高临界击穿电场、高电子饱和迁移率、高化学稳定性等特点,在高温、高频、大功率、光电子抗辐射、高密度集成电子器件等方面具有巨大的应用前景。应用其特有的禁带...
董捷胡小波韩荣江李现祥徐现刚王继扬
文献传递
升华法生长大直径的SiC单晶被引量:4
2004年
采用高纯Si粉和C粉在适宜的温度和压力下合成了多晶SiC粉末,在此基础上采用升华法在低压高温下条件下生长了大直径6H SiC单晶,并根据热力学理论分析了SiC的分解。结果表明,在2300℃附近的生长温度下,Si,Si2C,SiC2是Si C热力学平衡下的主要物种,其平衡分压比同组分的SiC物种高出3个量级,因而是升华过程中的主要物种,其质量传输过程直接决定SiC的生长。另外,采用光学显微镜观察SiC单晶中的生长缺陷,分析了缺陷成因,提出了碳的包裹体是微管缺陷的重要来源,而调制掺氮可以抑制部分微管在[0001]方向上的延伸,并在此分析基础上调整生长参数,生长出了高质量的6H SiC单晶。
李娟胡小波王丽李现祥韩荣江董捷姜守振徐现刚王继扬蒋民华
关键词:SIC微管晶体生长热力学
温度及温度梯度对SiC单晶生长的影响
利用升华法在高温低压下生长大直径SiC单晶.通过实验发现:在相同的轴向温度梯度下,SiC晶体平均生长速率随籽晶温度的升高而变大.通过减小轴向温度梯度,降低晶体生长界面的径向过饱和度分布,可以抑制多型的生长.通过优化温场的...
李现祥李娟董捷王丽姜守振韩荣江徐现刚王继扬胡小波蒋民华
关键词:SIC单晶生长速率
文献传递
共4页<1234>
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