中国矿业大学青年科技基金(2005A046)
- 作品数：2 被引量：9H指数：2
- 相关作者：王晓虹冯培忠任耀剑刘明孙智更多>>
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- 发文基金：中国矿业大学青年科技基金江苏省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 离子注入辅助Al_2O_3陶瓷表面化学镀镀层特性研究被引量：4
- 2008年
- 用金属离子源在96Al2O3陶瓷表面注入不同能量和剂量的Ni离子,然后在镀液中进行化学镀铜。用扫描电镜、卢瑟福背散射能谱和X光电子能谱技术对注入层和镀层进行分析研究。结果表明:Ni离子注入可作为一种新的活化工艺,辅助Al2O3陶瓷化学镀铜;注入参数对后续化学镀覆有显著影响,注入获得表面Ni浓度高的镀覆效果较好,应选用低能量进行高剂量注入;试验条件下优选工艺参数为15keV,2.2×1017ions/cm2,该条件下开始化学镀铜的孕育期仅为45s,镀速达到52.43nm/min,镀层表面粗糙度为0.317μm,所得化学镀铜层均匀、致密,与基体结合紧密。
- 王晓虹孙智王德奎刘明
- 关键词：离子注入AL2O3活化化学镀铜
- MoSi_2发热元件表面保护膜的形貌与结构被引量：5
- 2008年
- 采用SEM和EDS技术研究了国外某MoSi2发热元件表面保护膜的成分和微观组织。结果表明:在MoSi2发热元件外表面存在一层光滑致密的厚度超过10μm的玻璃保护膜,膜和基体之间界面清晰,结合紧密,该膜是一种以SiO2为主,含有少量铝、钠、镁和钙氧化物的复合成分的玻璃保护膜;在最外层玻璃保护膜和基体之间存在1~2μm厚的Mo5Si3过渡层;复合成分玻璃保护膜和Mo5Si3过渡层的出现有利于调整保护膜和基体之间热膨胀系数的差异,提高保护膜和基体结合的稳定性,有利于发热元件的高温使用。
- 王晓虹任耀剑冯培忠
- 关键词：二硅化钼发热元件保护膜
