嘉兴市科技计划项目(2009AY2007)
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
- 相关作者：唐普洪熊京远柴国钟宋仁国毛杰更多>>
- 相关机构：嘉兴职业技术学院浙江工业大学浙江工商职业技术学院更多>>
- 发文基金：嘉兴市科技计划项目浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术更多>>
- PLD法沉积TiN超硬层的力学性能及其在轴瓦上的应用
- 2011年
- 采用PLD法沉积了TiN层,用显微硬度计、扫描电子显微镜、摩擦磨损试验机、电子拉伸试验机等现代分析测试手段对TiN层性能及断面组织进行了系统考察,用有限元法对TiN层与基体的应力分布进行了模拟分析。同时,还对TiN层在推力轴承推力瓦上的应用进行了初步试验。结果表明,PLD法沉积的TiN层与基体间呈冶金结合,结合强度大于70 MPa。
- 徐生唐普洪
- 关键词：有限元法
- 脉冲激光沉积制备TiN/AlN多层薄膜的研究
- 2010年
- 采用脉冲激光沉积（PLA）法,在单晶Si试样表面沉积制备了一系列TiN/AlN硬质多层膜,并采用基于免疫算法的免疫径向基函数（IRBF）神经网络对AlN厚度建立预测模型,设计出具有可控调制周期和调制比的TiN/AlN多层膜。X射线衍射（XRD）结果表明,小调制层周期下,过高或过低的工艺条件下薄膜通常为非晶态,适当的工艺条件下TiN、AlN形成具有强烈织构的超晶格柱状晶多层膜;与此相应,纳米多层膜产生了硬度和弹性模量异常增高;随着调制比增加,使纳米多层膜形成非晶AlN层和纳米晶TiN层的多层结构,多层膜的硬度和弹性模量逐渐下降。XPS结果表明,薄膜界面由Ti＋4、Ti＋3离子组成,N的负二价、三价亚谱结构预示着非当量TiN、AlN的形成。AFM研究显示,薄膜的调制周期均在10~200 nm范围内,且薄膜表面较均匀;当多层薄膜调制周期在50 nm以下时,薄膜的纳米硬度值明显高于TiN和AlN的混合硬度值,达30 Gpa。
- 唐普洪宋仁国柴国钟王道宏熊京远
- 关键词：多层膜
- 脉冲激光沉积TiN/AlN多层膜的微结构与力学性能被引量：4
- 2010年
- 采用脉冲激光沉积(LPA)法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的岛密度小,岛面积过大,分布不均匀,相邻岛之间的起伏较大。X射线衍射(XRD)结果表明,小调制比下,AlN相为明显的(002)择优取向,TiN相主要以(200)、(220)形式存在;调制比增大后,AlN相的择优取向减弱,同时伴随着薄膜晶粒的细化及硬度增强,这一研究结果说明,调制比对多层膜的性质有一定的影响,大调制比会导致Al元素在界面处聚集,并与TiN进行合金化后的形成TiAlN结构,进而对薄膜的硬度产生影响。
- 唐普洪宋仁国柴国钟毛杰熊京远
- 关键词：多层膜微观结构纳米压痕
