天津市应用基础与前沿技术研究计划(043801011)
- 作品数：11 被引量：22H指数：3
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- ZrN、WN的调制比例对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响
- 利用射频磁控溅射系统制备了调制周期A等于30 nm的一系列具有不同调制比例的 ZrN／WN纳米多层膜。X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究表明:ZrN／WN纳米多层膜的界面清晰,调制周期性良好;适当的ZrN和W...
- 杨瑾王明霞李德军
- 关键词：磁控溅射
- 文献传递
- ZrN、WN的调制比例对ZrN/WN纳米多层膜结构与机械性能的影响
- 利用射频磁控溅射系统制备了调制周期Λ等于30nm的一系列具有不同调制比例的ZrN/WN纳米多层膜。X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究表明:ZrN/WN纳米多层膜的界面清晰,调制周期性良好;适当的ZrN和WN调...
- 杨瑾王明霞李德军
- 关键词：磁控溅射
- 文献传递
- 调制周期对TaN/VN纳米多层膜的影响被引量：3
- 2007年
- 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统分析了该体系合成以后的晶体结构、调制周期对力学性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为30 nm时TaN/VN多层膜达到最大硬度31 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量以及耐磨性能均达到最佳效果。
- 张学华曹猛杨瑾刘桐王明霞邓湘云李德军
- 关键词：射频磁控溅射调制周期
- 工作气压对TaN/VN纳米多层膜结构与机械性能的影响被引量：1
- 2007年
- 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜。通过XRD,纳米力学测试系统分析了该体系合成中工作气压对多层膜结构与机械性能的影响。结果表明多层膜的纳米硬度值都高于两种个体材料混合相的硬度值;当工作气压为0.2Pa时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量、应力均达到最佳效果,最大硬度达到31GPa。多层膜的机械性能改善明显与工作气压的变化有直接的联系。证明了通过选择合适的工作气压条件,合成具有高硬度的纳米多层膜是可以实现的。
- 张学华曹猛乔林杨瑾刘桐李德军
- 关键词：射频磁控溅射工作气压
- 调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响被引量：1
- 2007年
- 本研究选择钽和铌的氮化物作为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备TaN、NbN及一系列的TaN/NbN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪分析了该体系合成以后的晶体结构,以及调制周期对机械性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为8.5 nm时,TaN/NbN多层膜达到最大硬度30 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜-基结合性能均达到最佳效果。
- 张学华曹猛王明霞刘桐李德军
- 关键词：射频磁控溅射调制周期
- N_2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响被引量：2
- 2007年
- 利用射频磁控溅射系统在不同N2分压的条件下,制备了一系列ZrN/WN纳米多层膜.借助慢正电子湮没技术分析了样品的缺陷性质,采用纳米压痕仪研究了多层膜的力学性能.结果发现:N2分压为0.4Pa的多层膜具有最小的空位型缺陷浓度,其中心层和膜基结合层的平均S参数分别为0.4402和0.4641,而较低或较高的N2分压都可能导致空位型缺陷浓度的增加.随着空位型缺陷浓度的减小,多层膜的硬度和临界载荷增大.对于空位型缺陷浓度最小的多层膜,其硬度和临界载荷达到最大值,分别为34.8GPa和100mN,说明较低的缺陷浓度有利于提高多层膜的力学性能.
- 王立群王明霞李德军杨瑾余大书宿杰
- 关键词：力学性能
- Ar／N2气体比例对ZrN／WN纳米多层膜的结构和性能的影响
- 选择Zr和W的氮化物作为个体层材料,利用FJKS60CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备ZrN,WN 及一系列的ZnN／WN多层薄膜。通过X射线衍射仪,俄歇电子能谱和纳米力学测试系统分析了该体系合成中Ar／N...
- 王明霞张晶晶杨瑾刘谦祥李德军
- 关键词：射频磁控溅射
- 文献传递
- 磁控溅射参数对ZrN/WN纳米多层膜的结构和性能的影响
- 目前,多层薄膜的研究已经引起工业界的广泛关注。因为随着多层膜中个体薄膜厚度趋向于纳米量级,多层膜体系的整体性能会大大改善。当然,多层膜体系性能的改善也与个体薄膜材料的种类和结构有着直接的关系。因此研究不同种类材料构成的纳...
- 王明霞张晶晶杨瑾刘谦祥李德军
- 文献传递
- 用IBAD方法合成ZrN/W纳米多层膜被引量：2
- 2006年
- 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm^10 nm)的纳米多层膜。利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构和机械性能,分析了不同调制周期对薄膜结构与机械性能的影响。结果表明:多层膜的机械性能普遍优于两种个体材料的混合相;在调制周期为8.6 nm时,显示出强的ZrN(111),W(110)织构和较弱的ZrN(220)峰,与其他条件下制备的样品比较,它具有较高的硬度(~26 GPa),较高的弹性模量(~310 GPa)和较强的膜基结合力(~80 mN)。低角度XRD分析证明了薄膜的多层结构。
- 张晶晶王明霞杨瑾刘谦祥李德军
- 关键词：IBAD多层膜超晶格
- 具有高温稳定性的ZrAlN薄膜的合成被引量：8
- 2006年
- 干磨可以造成工具表面的温度上升到800～1000℃．因此，能在如此高温度下为切削工具提供保护的膜层已成为研究的热点．ZrAlN由于Al元素的存在可能具有高温稳定的结构和机械性能．用直流磁控溅射的方法合成了ZrAlN薄膜．利用XRD与纳米压痕仪分析了反应气体分压和基底偏压对薄膜结构、机械性能及其高温热稳定性的影响．在最佳条件（基底偏压-37V，N2分压为2×10^-5Pa）制备的ZrAlN薄膜具有平滑的表面且其硬度具有热稳定性．在退火之后，该薄膜的应力由2．2GPa降至0．7GPa．薄膜的高温热稳定性可能与Al2O3和ZrO2晶相的形成有着直接的联系．
- 李德军
- 关键词：磁控溅射热稳定性
