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中国科学院知识创新工程(KJCXZ-XW-W09)

作品数：1 被引量：4H指数：1
相关作者：李军陈创天朱镛更多>>
相关机构：中国科学院更多>>
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相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇晶体
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇LBO晶体
  • 1篇超光滑
  • 1篇超光滑表面

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇朱镛
  • 1篇陈创天
  • 1篇李军

传媒

  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
LBO晶体超光滑表面抛光机理被引量：4
2007年
胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理。在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系。LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除。酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度。
李军朱镛陈创天
关键词：LBO晶体化学机械抛光超光滑表面
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