您的位置: 专家智库 > >

教育部“新世纪优秀人才支持计划”(07-0459)

作品数:1 被引量:1H指数:1
相关作者:孟凡杰刘海旭孙甲明侯琼琼更多>>
相关机构:南开大学更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电致发光
  • 1篇电致发光特性
  • 1篇离子注入
  • 1篇红外
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性
  • 1篇SIO
  • 1篇ER

机构

  • 1篇南开大学

作者

  • 1篇侯琼琼
  • 1篇孙甲明
  • 1篇刘海旭
  • 1篇孟凡杰

传媒

  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
Er离子注入的富硅SiO_2 MOS-LED的可见和红外电致发光特性被引量:1
2011年
通过Er离子和Si离子注入并结合高温退火制备了Er掺杂的富硅SiO2薄膜以及ITO/SiON/富硅SiO2∶Er/Si MOS结构电致发光器件。研究了富Si浓度的变化对Er3+离子掺杂的电致发光器件的发光性能和传导特性的影响。发现不同Si含量对Er3+离子的不同能级的电致发光会产生不同作用。在富Si量小于5%的条件下,主要由Si离子注入产生氧空位缺陷发光中心(Si-ODC),它们和Er3+离子的高能级之间存在着共振能量传递,增强了Er3+离子的522 nm绿色发光峰强度。在富Si含量大于5%时,过量的Si在退火时形成了纳米硅微晶,电子在纳米硅微晶之间的隧穿改变了载流子输运机制,降低了过热电子的平均能量,导致Er3+离子的所有发光峰的猝灭。
刘海旭孙甲明孟凡杰侯琼琼
关键词:电致发光离子注入
共1页<1>
聚类工具0