国家科技支撑计划(2011BAF02804)
- 作品数：9 被引量：35H指数：5
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- 相关机构：上海理工大学教育部南洋理工大学更多>>
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- 高成像质量Offner成像光谱仪的理论分析与研制被引量：7
- 2014年
- 以双镜系统为基础构建了Offner成像光谱仪,并利用光程函数来获得一种Offner成像光谱仪的初始结构.通过光学设计软件Code V对该初始结构进行了仿真与优化,优化后的光谱仪具有高成像质量,其均方根点列图直径明显降低,调制传递函数曲线在子午像与弧矢像上都获得了好的成像效果.该研究免去了过于复杂的像差推导过程,并在宽光谱400~1 300nm条件下获得了具有高成像质量的Offner光谱仪结构,为光谱仪的搭建提供了理论基础.
- 韩姗黄元申李柏承张大伟倪争技庄松林
- 关键词：光学设计光学系统光谱分析
- 基于激光干涉仪的衍射光栅波前检测被引量：5
- 2013年
- 以往检测衍射光栅波前时,需自行搭建检测光路,且搭建过程中由于元件较多,造成系统精度难以保证,得到的测量结果不够理想。针对这些问题,本文提出基于GPITMXP/DX型ZYGO干涉仪搭建检测光路,并对平面衍射光栅及凹面衍射光栅的衍射波前进行了检测,得到参考光与衍射光的干涉条纹及相关信息,拓展了ZYGO干涉仪的用途。利用传统的干涉检测法,检测时,干涉仪与标准透镜及反射镜配合使用,标准镜精度接近λ/40,干涉腔精度为λ/20。检测得到平面光栅一级衍射光与参考光的干涉条纹及光栅的衍射波前,分析比较了两种检测凹面光栅的方法。与以往检测光栅波前装置相比,本文提出的测量装置精度高、安装简单,不需要搭建专门的波前检测装置,便于重复测量,得到的结果可靠性高。
- 钱林勇钱林勇黄元申张大伟倪争技
- 关键词：光栅干涉条纹
- 计算凹面闪耀光栅衍射效率的通用方法被引量：6
- 2013年
- 为使凹面光栅的衍射能量更多地集中在所需要的级次上,提出了利用机械刻划的方法在凹面基底上制作变刻槽角度的凹面闪耀光栅,并利用菲涅耳-基尔霍夫衍射公式推导了同时在主截面和非主截面内计算凹面闪耀光栅衍射效率的理论方法,弥补了以往只在主截面内考虑衍射效率的不足,最后利用Matlab仿真软件模拟了衍射效率随波长的变化曲线,并对比了在不同制作和使用参数下衍射效率峰值的变化规律,为今后凹面光栅的设计和制作提供了参考价值。
- 李亭黄元申徐邦联李柏承张大伟陶春先凌进中庄松林
- 关键词：衍射效率菲涅耳衍射数值积分法
- 光学雨滴谱测量仪被引量：4
- 2013年
- 光学雨滴谱测量仪能够实时监测雨滴直径分布、雨滴降落速度等气象参数,可应用于气象研究、环境监测、农业安全预警等领域。采用红外LED光源和线阵CCD,搭建了雨滴谱测量光路,并用水滴代替雨滴,演示测量了通过采样空间的水滴的直径和速度,验证了雨滴参数光学测量的可行性。实验中发现当较大雨滴紧贴CCD窗口通过采样空间时,液体透镜效应十分明显,CCD对应区域的光强增强,与通常的遮挡现象正好相反,因此在后续的程序处理中需妥善处理这类异常信号。
- 王文瀚凌进中王力田黄元申张大伟
- 关键词：光学测量雨滴谱光电探测线阵CCD
- 离子束辅助及退火后处理对氦-镉激光器反射镜输出功率的影响被引量：1
- 2013年
- 为了制备高输出功率的441.6nm氦-镉激光反射镜,研究了氧离子束辅助工艺及退火后处理对ZrO2单层膜及441.6nm氦-镉激光器ZrO2/SiO2反射膜的影响。利用紫外-可见分光光度计测试了薄膜样品的反射光谱及吸收光谱;通过原子力显微镜测试了薄膜表面的粗糙度。测量及分析结果表明:氧离子束辅助沉积能够提高激光反射镜的反射率并形成致密的薄膜结构,但是由于引入的杂质缺陷提高了薄膜的吸收率从而使得激光的输出功率变小;退火处理消除了吸附于薄膜表面的杂质气体、水分,输出功率相比于退火前有了大幅度的提高。
- 崔潇陶春先洪瑞金张大伟
- 关键词：激光反射镜输出功率离子束辅助
- 中阶梯光栅刻划误差要求分析被引量：5
- 2013年
- 中阶梯光栅作为高色散和高分辨率光学器件,已经广泛的应用于大型光谱仪器之中。在中阶梯光栅的刻划过程中,存在刻划误差,这将严重影响光栅衍射性能,最终使得衍射效果产生缺陷。针对此情况,定量分析了中阶梯光栅的刻划误差对衍射光谱、衍射级次、波前误差、鬼线强度、杂散光强度的影响以及提出了一种从衍射效率角度分析刻划误差的方法。在满足一定条件下,求得上述因素对应的刻划误差分别为:1 265.8 nm、352 nm、37 nm、112 nm、3.4 nm。这对光栅刻划时限定刻划机的刻划精度提供了直接和重要的参考。
- 丁卫涛黄元申张大伟杨海马
- 关键词：刻划误差误差分析中阶梯光栅衍射效率
- 旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比被引量：4
- 2014年
- 晕苯是一种用于真空紫外光致发光重要的下转换材料。本文研究旋涂法和热蒸发法制备紫外CCD用晕苯薄膜的工艺方法,并对所制备的两种薄膜的性能进行了表征和对比。测试结果表明:旋涂方式成膜工艺简单,材料利用率较高,并且保持了荧光材料本身固有的晶体结构,但是膜面粗糙度较大;热蒸发方式成膜后紫外吸收较强,荧光发射强度相对较高,成膜后膜面粗糙度较小;热蒸发工艺在加热过程中改变了晕苯的晶体结构并形成了新的结晶态;相比于旋涂法,热蒸发的整个制备工艺相对复杂,并且生产成本较高。此外,该对比性研究工作为实现不同要求(如荧光发射强度、表面粗糙度、生产成本等)的荧光下转换薄膜的制备提供了理论指导。
- 何梁张大伟陶春先洪瑞金黄元申
- 关键词：旋涂法热蒸发
- 光栅刻划中工作台过冲现象的改善
- 2013年
- 在分度运动控制系统中以DMC2210控制卡为核心,采用光栅尺为分度运动反馈器件,实现了高精度的实时监测反馈。针对工作台"过冲"现象进行了两方面的分析优化:一方面,分析了步进电机减速方式对刻划效果的影响,通过分段减速初步改善了工作台"过冲"现象;另一方面,分析并模拟了弹簧(联接工作台和分度丝杠螺母)刚度对工作台"过冲"问题的影响,更换大刚度弹簧后,很大程度改善了工作台"过冲"现象。改进后对光栅刻线密度为79 g/mm的中阶梯光栅进行了多次刻划试验,计算的机器分度精度均在5 nm以内,选取其中一组较好的数据(机器分度精度为2.887 nm)与之前多次刻划试验中较好的一组数据(机器分度精度为7.759 nm)进行了比较,结果表明刻划机分度精度得到很大的提高。
- 王忠坦倪争技洪瑞金黄元申张大伟
- 关键词：光栅尺过冲弹簧刚度分度精度
- 紫外增强Lumogen薄膜旋涂法制备及其性能表征被引量：7
- 2013年
- Lumogen薄膜用于固态硅基探测器件CCD紫外增强具有显著的成本和工艺优势。研究旋涂法制备Lumogen薄膜的CCD紫外增强技术,通过对薄膜的光谱分析得到优化的制备工艺。制备的薄膜在可见光波段透过率较高,对紫外波段的光具有较强的吸收,其发射峰位于525nm,并且激发谱较宽,涵盖200～400nm。实验结果表明使用旋涂法制备的紫外增强薄膜,能将紫外光转化为可见光,并且在增强紫外响应的同时,不削弱可见波段的响应,是一种有效增强固态检测器紫外响应的紫外增强薄膜。
- 姜霖张大伟陶春先黄元申王琦倪争技庄松林
- 关键词：旋涂
