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中国人民解放军总装备部预研基金(9140A18070209BQ02)

作品数:4 被引量:13H指数:2
相关作者:于斌斌袁军堂黄云林汪振华薛志松更多>>
相关机构:南京理工大学江苏大学更多>>
发文基金:中国人民解放军总装备部预研基金中国博士后科学基金江苏省普通高校研究生科研创新计划项目更多>>
相关领域:机械工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质薄膜
  • 1篇蚀刻
  • 1篇蚀刻技术
  • 1篇球磨
  • 1篇微粒
  • 1篇微米
  • 1篇脉冲
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇磨损
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石颗粒
  • 1篇均匀性
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀速率
  • 1篇激光
  • 1篇公差

机构

  • 4篇南京理工大学
  • 1篇江苏大学

作者

  • 4篇袁军堂
  • 4篇于斌斌
  • 2篇汪振华
  • 2篇黄云林
  • 1篇夏亮亮
  • 1篇孙淮阳
  • 1篇薛志松
  • 1篇吴笑天
  • 1篇胡小秋

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2011
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于球磨技术的α-C:H膜微粒磨损机理与实验研究被引量:2
2013年
膜层耐磨性能的测量与评价已成为硬质薄膜技术发展与应用的关键问题。球磨技术采用连续回转运动的GCr15轴承钢球带动悬浮液中的金刚石颗粒(直径为1.5μm)对试样进行球磨,通过对"圆环状"磨痕内外圈直径的测量,并利用提出的单位磨损率概念评价其耐磨性。以非平衡磁控溅射/阳极离子束沉积法在SKD11不锈钢基体上制备的Cr/α-C:H多层膜为研究对象,采用球磨法检测耐磨性能,磨球转速为200 r/min(0.26 m·s-1),对试样的压力载荷为0.45 N,球磨圈数在50~800之间。并通过体式显微镜,原子力显微镜以及扫描电镜对薄膜的磨损情况进行表面观察。经对实验数据的分析,球磨圈数350为耐磨临界值,测得Cr/α-C:H膜的单位磨损率δ为8.87×10-9(mm4·mm-2)。结果表明,薄膜在微粒磨损的作用下,其去除机制主要以微切削和犁沟为主。
于斌斌袁军堂汪振华夏亮亮黄云林
关键词:球磨金刚石颗粒耐磨性
基于相对精度因子的微米和中间尺度公差研究
2010年
在设计和加工微小型零件时,由于现有公差数值表缺少对微米和中间尺度的描述,因而使得批量生产和控制表面质量、加工精度极为不便。针对该问题,以微米和中间尺度为研究范围,在分析现有标准公差数值表的基础上,提出了相对精度因子的概念,并基于MATLAB曲线拟合的方法,建立了相对精度因子与尺寸几何平均值的数学模型,从而得到该尺度区间相对应的公差数值,为完善现有标准公差数值表提供参考。
于斌斌袁军堂胡小秋
关键词:公差
多层等离子体蚀刻技术的研究被引量:7
2013年
干法刻蚀现已成为微小高深宽比结构加工与微细图形制作的重要手段。提出了一种新的干法刻蚀技术—多层等离子体蚀刻,充分利用腔体的空间布局,布置多层电极,并采用分层送气装置输送放电气体,实现多层同时进行刻蚀,可成倍提高产能。采用该技术刻蚀光阻为例,从空间与时间两个角度分析了工艺参数对刻蚀速率与均匀性的影响规律与作用机理。实验结果表明,极板间距为50/55/60mm(由下向上),工作压力为40 Pa,R[O2:Ar]为1/2,RF功率为600W时,整炉次刻蚀速率均值为14.395 nm/min,均匀性为9.8%,此时工艺最为合理。
于斌斌袁军堂汪振华薛志松黄云林
关键词:刻蚀速率均匀性光阻
新型界面结合强度检测技术理论及实验研究被引量:4
2011年
膜/基界面结合强度的测量与评价已成为硬质薄膜技术发展与应用的关键问题.提出了1种新的测量方法———激光冲击检测技术,分析了在脉冲激光作用下,薄膜脱落的机理与数学模型.以测定TiN薄膜界面结合强度为例,用650~1000 mJ的脉冲激光对膜层进行加载,并采用体式显微镜和扫描电镜对薄膜的脱落情况进行表面观察,根据反射信号检测法判别TiN薄膜的失效阈值.实验数据分析表明,测得膜/基界面的结合强度为4.954 GW/cm2,验证了该技术的可行性.
于斌斌袁军堂孙淮阳吴笑天
关键词:脉冲激光硬质薄膜
共1页<1>
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