2024年12月14日
星期六
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
国家重点基础研究发展计划(2006CB932400)
作品数:
2
被引量:6
H指数:2
相关作者:
梁学磊
张志勇
彭练矛
王胜
陈清
更多>>
相关机构:
北京大学
更多>>
发文基金:
国家重点基础研究发展计划
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
一般工业技术
更多>>
相关作品
相关人物
相关机构
相关资助
相关领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
2篇
中文期刊文章
领域
2篇
一般工业技术
主题
2篇
碳纳米管
2篇
纳米
2篇
纳米管
1篇
一维纳米
1篇
一维纳米材料
1篇
扫描电子显微...
1篇
碳纳米管材料
1篇
维纳米材料
1篇
纳米材料
1篇
CMOS技术
机构
2篇
北京大学
作者
2篇
陈清
2篇
王胜
2篇
彭练矛
2篇
张志勇
2篇
梁学磊
1篇
高旻
1篇
胡又凡
1篇
姚昆
传媒
1篇
电子显微学报
1篇
中国科学(G...
年份
1篇
2008
1篇
2007
共
2
条 记 录,以下是 1-2
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
碳纳米管材料和碳纳米管基器件的扫描电镜成像
被引量:4
2007年
本文探讨了在扫描电镜中单壁碳纳米管的成像问题。一般情况下碳纳米管的像衬度随入射电子能量,扫描速度,样品基底和环境而变,情况非常复杂。但在一定厚度的SiO2绝缘基底上且与金属电极相连的单壁碳纳米管的成像机理则相对简单。单壁碳纳米管像衬度的贡献主要来源于二次电子而不是背散射电子。像衬度产生的机理主要为SiO2绝缘基底在成像过程中的电荷积累导致的表面电势的变化对于碳纳米管以及周围SiO2基底二次电子发射效率的影响。
彭练矛
王胜
梁学磊
张志勇
姚昆
胡又凡
高旻
陈清
关键词:
扫描电子显微镜
碳纳米管
后摩尔时代的基于一维纳米材料的CMOS技术
被引量:2
2008年
基于碳纳米管的场效应晶体管技术源于1998年,在随后的近10年间p型(空穴型)场效应晶体管的制备技术日趋完善,其性能全面超过相对应的硅基场效应晶体管.最近北京大学研究组关于高性能室温弹道n型(电子型)碳纳米管场效应晶体管的研究为基于碳纳米管的CMOS(complementary metal-oxide-semiconductor)技术的腾飞装上了另一个翅膀.特别是这种技术无需掺杂,加上碳纳米管特殊的几何和电子结构使得基于碳纳米管的CMOS技术有望突破传统微电子工艺所面临的一些根本性的困难,为下一步实现基于碳纳米管的纳电子电路的规模集成奠定了基础.
彭练矛
梁学磊
陈清
张志勇
王胜
关键词:
碳纳米管
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张