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模拟集成电路国家重点实验室开放基金(51439010303DZ0221)

作品数:2 被引量:13H指数:2
相关作者:杨谟华刘源王向展宁宁罗静芳更多>>
相关机构:电子科技大学中国电子科技集团公司第二十四研究所更多>>
发文基金:模拟集成电路国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇低功耗
  • 1篇延迟时间
  • 1篇英文
  • 1篇应变SI
  • 1篇应变硅
  • 1篇功耗
  • 1篇高速低功耗
  • 1篇PMOSFE...
  • 1篇SI
  • 1篇CMOS

机构

  • 2篇电子科技大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 2篇杨谟华
  • 1篇于奇
  • 1篇吴霜毅
  • 1篇罗静芳
  • 1篇宁宁
  • 1篇王向展
  • 1篇李竞春
  • 1篇徐婉静
  • 1篇刘源
  • 1篇张静
  • 1篇谭静

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇微电子学

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
新型高速低功耗CMOS预放大锁存比较器被引量:11
2006年
基于预放大锁存快速比较理论,提出了一种新型高速低功耗CMOS比较器的电路拓扑。采用典型的0.35μm/3.3 V硅CMOS工艺模型,用Cadence软件进行模拟仿真,比较器延迟时间为231 ps,比优化前降低了235 ps;其回馈噪声对输入信号和电阻串参考电压产生的毛刺峰值分别为6.35 mV和1.57 mV;电路功耗118.6μW。运用该结构的比较器具有快速过驱动恢复能力,大幅度提高了比较器的速度;能有效抑制其回馈噪声,功耗低,可用于高速低功耗A/D转换器模块的设计。
杨赟秀罗静芳宁宁于奇王向展刘源吴霜毅杨谟华
关键词:低功耗延迟时间
薄虚拟SiGe衬底上的应变Si pMOSFETs(英文)被引量:2
2005年
成功地试制出薄虚拟SiGe衬底上的应变Si pMOSFETs.利用分子束外延技术在100nm低温Si(LT- Si)缓冲层上生长的弛豫虚拟Si0.8Ge0.2衬底可减薄至240nm.低温Si缓冲层用于释放虚拟SiGe衬底的应力,使其应变弛豫.X射线双晶衍射和原子力显微镜测试表明:虚拟SiGe 衬底的应变弛豫度为85%,表面平均粗糙度仅为1. 02nm.在室温下,应变Si pMOSFETs的最大迁移率达到140cm2/(V·s).器件性能略优于采用几微米厚虚拟SiGe衬底的器件.
李竞春谭静杨谟华张静徐婉静
关键词:应变硅
共1页<1>
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