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国家重点基础研究发展计划(2011CB301901)

作品数:5 被引量:4H指数:1
相关作者:贾辉陈一仁孙晓娟黎大兵宋航更多>>
相关机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇英文
  • 2篇应力
  • 2篇探测器
  • 2篇紫外探测
  • 2篇紫外探测器
  • 2篇拉曼
  • 2篇光谱
  • 1篇散射
  • 1篇散射光
  • 1篇散射光谱
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇拉曼散射
  • 1篇拉曼散射光谱
  • 1篇各向异性
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇PHOTOV...
  • 1篇ALN
  • 1篇ALN薄膜

机构

  • 4篇中国科学院研...
  • 4篇中国科学院长...

作者

  • 4篇李志明
  • 4篇缪国庆
  • 4篇蒋红
  • 4篇宋航
  • 4篇黎大兵
  • 4篇孙晓娟
  • 4篇陈一仁
  • 4篇贾辉

传媒

  • 4篇发光学报
  • 1篇Journa...

年份

  • 4篇2012
  • 1篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
SiO_2纳米颗粒对a-AlGaN金属-半导体-金属结构紫外探测器的影响
2012年
采用对a-AlGaN表面沉积SiO2纳米颗粒制备工艺得到了金属-半导体-金属(MSM)结构的a-AlGaN紫外探测器。与没有沉积SiO2纳米颗粒的探测器件相比,沉积SiO2纳米颗粒使器件的暗电流下降了一个数量级,峰值光谱响应度提高了近3个数量级,紫外/可见抑制比大于103。
贾辉陈一仁孙晓娟黎大兵宋航蒋红缪国庆李志明
关键词:MSM紫外探测器
初始化生长条件对a-GaN中应变的影响被引量:2
2012年
利用高分辨X射线衍射(HRXRD)与拉曼散射光谱(Raman scattering spectra)研究了氮化处理与低温AlN缓冲层对低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)在r面蓝宝石衬底上外延的a面GaN薄膜中的残余应变的影响。实验结果表明:与氮化处理后生长的a-GaN相比,使用低温AlN缓冲层后生长的a-GaN具有较小的摇摆曲线的半高宽和较低的残余应变,而且其结构各向异性和残余应变各向异性也均有一定程度的降低。因此,与氮化处理相比,低温AlN缓冲层更有利于a-GaN的生长。
贾辉陈一仁孙晓娟黎大兵宋航蒋红缪国庆李志明
关键词:各向异性拉曼散射光谱
AlN插入层对a-AlGaN的外延生长的影响(英文)被引量:1
2012年
采用有机金属化学气相沉积(MOCVD)在r面蓝宝石衬底上生长a-AlGaN外延膜,研究了AlN插入层对a-AlGaN外延膜的应力和光学性质的影响。根据高分辨X射线衍射(HRXRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)我们可以得到,AlN插入层有效地提高了a-AlGaN外延膜的晶体质量并减小了外延膜材料结构的各向异性。由拉曼光谱得到AlN插入层的引入减小了a-AlGaN外延膜的面内压应力,其原因是AlN插入层可以当作衬底有效的调制与减小a-AlGaN外延膜与r面蓝宝石衬底的晶格失配,从而使a-AlGaN的面内应力得到适当释放。对室温下的光致发光进行测量得到AlN插入层的使用使近带边发射峰(NBE)发生了红移,这可能是由于残余应力的减小引起。
贾辉陈一仁孙晓娟黎大兵宋航蒋红缪国庆李志明
关键词:应力拉曼光谱光致发光
GaN-based MSM photovoltaic ultraviolet detector structure modeling and its simulation
2011年
Based on the principles of metal-semiconductor-metal Schottky barrier photodetectors(MSM-PD), using the carrier rate equations,the circuit simulation model of a GaN-based MSM photovoltaic ultraviolet detector is constructed through an appropriately equivalent process.By using the Pspice analytical function of Cadence soft on the model,the relationship between the photocurrent and the terminal voltage under different UV light powers is analyzed.The result shows that under the given UV power,the photocurrent increases and tends to become saturated gradually as the terminal voltage of the device increases,and that under different UV powers,the photocurrent increases with increasing incident power.Then the analysis of the relationship between the photocurrent and the terminal voltage under the different ratios of interdigital electrode space and width is carried out when the UV power is given.The results show that when the ratio of interdigital electrode space and width(L/W) equals 1,the photocurrent tends to be at a maximum.
陈一仁宋航黎大兵孙晓娟李志明蒋红缪国庆
关键词:紫外探测器MSMCADENCEPSPICE
预通三甲基铝对AlN薄膜的结构与应变的影响(英文)被引量:1
2012年
采用有机金属化学气相沉积设备用两步生长法在(0001)蓝宝石衬底上制备AlN薄膜。研究了预通三甲基铝(TMAl)使衬底铝化对外延AlN的影响。利用高分辨X射线衍射(XRD)技术和扫描电子显微镜(SEM)分析了样品的结晶质量以及外延膜中的残余应力。通过SEM观察发现,短时间的预通TMAl处理对AlN薄膜表面的影响不大;但随着预通时间的增加,表面会出现六角形的岛。通过优化TMAl的预通时间可以保护衬底被氮化有利于Al极性面AlN的生长,从而得到的Al极性面AlN表面比较平整;但是预通TMAl时间过长会使衬底表面沉积金属态铝而不容易形成平整的表面。X射线双晶摇摆曲线结果表明:样品的(0002)和(1012)面的X射线双晶摇摆曲线的半峰宽随着预通TMAl时间的不断增加,由此得出薄膜的晶体质量不断下降。这可以解释为:预通TMAl使形成的晶核不再规则,从而在成核层形成了很多亚颗粒降低了晶体质量。进一步对XRD结果分析,我们也发现了这样的应力变化。这种应力的变化起源可以归结于内应力(岛的合并在其晶界引入的应力)与外应力(晶格失配与热失配引起的应力)共同作用的结果。
贾辉陈一仁孙晓娟黎大兵宋航蒋红缪国庆李志明
关键词:ALN应力
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