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国家自然科学基金(50272081)

作品数:4 被引量:9H指数:1
相关作者:张泽张晓娜李超荣吕威郑坤更多>>
相关机构:中国科学院北京工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划北京市优秀人才培养资助更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇量子阱结构
  • 3篇INGAN/...
  • 3篇弛豫
  • 2篇应变弛豫
  • 2篇晶格
  • 2篇发光
  • 2篇超晶格
  • 1篇射线衍射
  • 1篇失配
  • 1篇透射电子显微...
  • 1篇热蒸发
  • 1篇物理机制
  • 1篇显微结构
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米材料
  • 1篇晶格结构
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光

机构

  • 5篇中国科学院
  • 3篇北京工业大学

作者

  • 6篇张泽
  • 3篇吕威
  • 3篇李超荣
  • 3篇张晓娜
  • 1篇秦艳
  • 1篇韩晓东
  • 1篇郑坤

传媒

  • 4篇电子显微学报

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
4 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
InGaN/GaN量子阱结构的应变状态与微结构、物理性能关系的研究被引量:1
2005年
应变普遍存在于失配系统中,包括晶格、热膨胀系数以及扩散系数等失配,其状态即应变是否弛豫及弛豫程度与物理性能密切相关。量子阱或超晶格的晶格应变弛豫发生的临界厚度问题是关系到器件设计、材料制备的基本问题,虽然从理论上已提出了多种计算模型,但不同的模型所计算出的结果差别很大,且不同的模型所使用的范围尚不确定。这就激发了从实验上予以研究的要求。另外,含N的III V族究竟适用何种模型尚无定论,且对其弛豫行为以及对性能的影响缺乏细致的研究。本文应用高分辨X射线衍射和透射电子显微技术研究了InGaN GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度、行为以及对物理性能的影响。得出InGaN GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度更适合基于介稳外延半导体结构应变弛豫的Fischer模型;失配位错为纯刃型位错,可通过滑移面的改变而形成穿透位错;弛豫发生后,非常明显地影响发光性能,尤其是室温下的发光性能。
李超荣吕威张泽
关键词:INGAN/GAN量子阱结构失配发光性能弛豫超晶格
不同生长条件下Ag/SiOx纳米结构形态的演变
<正>纳米材料因为其潜在的优异性能引起了研究者们极大的兴趣,同时小尺度下的纳米结构也向人们呈现了丰富而美丽的形态。人们还不完全了解这些形态背后的物理机制,研究纳米结构形态之间的演变可以对物理机制的理解提供实验证据,从而更...
张晓娜张泽
文献传递
不同生长条件下Ag/SiO_x纳米结构形态的演变
2006年
张晓娜张泽
关键词:纳米材料SIOXAG物理机制
InGaN/GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度、行为以及对物理性能的影响
2004年
李超荣吕威张泽
关键词:超晶格结构应变弛豫透射电子显微镜X射线衍射
InGaN/GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度、行为以及对物理性能的影响
<正> 量子阱或超品格的应变弛豫发生的临界厚度问题是关系到器件设计、材料制备的基本问题,虽然从理论上已提出了多种计算模型,但不同的模型所计算出的结果差别很大,且不同的模型所使用的范围尚不确定,因此激发了从实验上予以研究的...
李超荣吕威张泽
文献传递
非晶SiO_2纳米线的合成及其显微结构和光学性质的研究被引量:8
2008年
本研究以硅片为衬底,热蒸发一氧化硅粉末在较低温度下合成了大量直径均匀的非晶SiO2纳米线。这些纳米线直径分布在15nm^40nm之间,长度几十微米。选区电子衍射(SAED)、能谱(EDS)、电子能量损失谱(EELS)分析结果表明这些纳米线为非晶SiO2纳米线。光致发光(PL)谱测试结果显示纳米线在波长550nm处存在一个较强的PL峰。本文进一步指出了蒸发源SiO粉末的颗粒度和蒸发温度对纳米线生长有强烈的影响。
秦艳张晓娜郑坤韩晓东张泽
关键词:热蒸发
共1页<1>
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