国家高技术研究发展计划(2004AA847060)
- 作品数：3 被引量：16H指数：3
- 相关作者：齐红基邵建达易葵范平范正修更多>>
- 相关机构：深圳大学中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划深圳市科技计划项目更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- Co和Cu薄膜电学特性和连续性特征的判据被引量：6
- 2006年
- 采用离子束溅射沉积了不同厚度的Co膜和Cu膜,利用四电极法测量了薄膜的电阻率,从而得到了Co膜和Cu膜的电导率随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明,Co膜和Cu膜的电学特性都具有明显的尺寸效应。比较了同时考虑表面散射和晶界散射的电导理论得到的电导率公式与实验结果,不同薄膜厚度电导率的理论结果与实验结果符合较好。提出了厚度作为金属薄膜生长从不连续膜进入连续膜的一个特征判据,并利用原子力显微镜(AFM)观测了膜厚在特征厚度附近的Co膜和Cu膜的表面形貌。
- 范平易葵邵建达齐红基范正修
- 关键词：金属材料电学特性
- Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究被引量：5
- 2006年
- 采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜,利用Lambda-900分光光度计,测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透射率.选定波长为310、350、400、430、550、632、800、1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行研究.同时,对Cu膜的光学常量也进行了讨论.结果显示,Cu膜的光学特性都有明显的尺寸效应.将波长为550nm时的反射率和透射率随Cu膜厚度变化关系的交点对应厚度作为特征厚度,该厚度可认为是金属Cu膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.根据这一特征判据,离子束溅射沉积Cu膜样品的最小连续膜厚为33nm.利用原子力显微镜观测了膜厚在特征厚度附近时Cu膜的表面形貌.
- 范平邵建达易葵齐红基范正修
- 关键词：薄膜物理学光学特性尺寸效应CU膜
- 离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究被引量：5
- 2006年
- 利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米Cu膜光学常数随膜厚变化明显;膜厚大于100 nm后,Cu膜的光学常数趋于一定值。Cu膜不连续时的光学常数与连续膜时的光学常数随波长变化规律不同;不同厚度的连续膜的光学常数随波长变化规律相同,但大小随膜厚变化而变化。
- 范平邵建达易葵齐红基范正修
- 关键词：薄膜光学光学常数离子束溅射
