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国家自然科学基金(51372109)

作品数:7 被引量:8H指数:1
相关作者:周艳文王晓明张鑫郭媛媛武俊生更多>>
相关机构:辽宁科技大学沈阳真空技术研究所有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省教育厅科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇电子电信

主题

  • 4篇导电薄膜
  • 4篇透明导电
  • 4篇透明导电薄膜
  • 3篇光电
  • 3篇光电性
  • 3篇光电性能
  • 2篇氧化物薄膜
  • 2篇透明导电氧化...
  • 2篇透明导电氧化...
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氮化
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体辅助
  • 1篇对苯二甲酸
  • 1篇对苯二甲酸乙...
  • 1篇乙二醇酯
  • 1篇增透
  • 1篇石墨

机构

  • 7篇辽宁科技大学
  • 1篇沈阳真空技术...

作者

  • 7篇周艳文
  • 2篇王晓明
  • 1篇张绪跃
  • 1篇郭媛媛
  • 1篇张鑫
  • 1篇高健波
  • 1篇武俊生

传媒

  • 4篇辽宁科技大学...
  • 1篇真空
  • 1篇实验室研究与...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 4篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2017
  • 1篇2016
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于等离子体在磁控溅射增强的模拟被引量:1
2020年
磁控溅射为代表的真空法已经成为制备薄膜的主流方法,磁场分布、等离子体密度分布及其温度等因素会直接影响到薄膜的质量。因此,选择合适的模型研究磁控溅射过程中气体放电时等离子体粒子以及电子分布非常重要。本文根据气体放电的基本原理,对圆柱形溅射装置采用流体模型,以电子、离子、亚稳态离子和中性粒子为主要粒子的等离子体建立物理模型,采用有限差分方法对所建立的模型,利用计算机编程数值模拟了直流溅射系统内气体放电的过程得到等离子体粒子的分布以及电子温度分布特性的模拟结果。
王晓明鄂东梅武俊生张绪跃周艳文
关键词:等离子体磁控溅射离子分布
透明导电薄膜(Ⅲ):TCO/M/TCO三层透明导电薄膜被引量:1
2021年
TCO/M/TCO三层透明导电薄膜具有可见光区透光率高、导电性好且超薄的特点,适用于包括柔性基底在内的电子器件的透明导电电极。本文阐述三层透明导电氧化物/金属/透明导电氧化物(TCO/M/TCO)薄膜透光导电原理,厚度设计及其对光电性能的影响,金属层的选择及作用机制,溅射氛围和后处理工艺对薄膜性能的影响。
闫彩波周艳文粟志伟王鼎杨东明
关键词:透明导电薄膜光电性能
透明导电薄膜(Ⅳ):石墨烯透明导电薄膜
2021年
石墨烯透明导电薄膜具有十分优异的光学、热学、电学和力学性能,在未来的柔性光电子器件中具有明显的优势。本文详细阐述石墨烯的结构及性质,综述以PET为衬底的TiN/石墨烯/PET薄膜、ZnO/石墨烯/PET薄膜、GaN/石墨烯/PET薄膜,以PI为衬底的PI/石墨烯/ZnO复合薄膜和石墨烯/Ag纳米线薄膜的研究进展,并概述石墨烯透明导电薄膜的应用领域。
闫彩波周艳文粟志伟王鼎
关键词:石墨烯透明导电薄膜
电磁场模拟磁控溅射装置中磁场的空间分布
2016年
通过建立通电线圈磁场的数学模型,采用FORTRAN语言自主编程,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。计算结果表明,当内、外线圈加反向电流,加大内或外线圈电流,可使线圈产生的磁场非平衡度增加。通过调节内、外线圈电流,控制磁场分布,而增加内或外线圈电流则可使真空腔内磁场强度分布更加均匀,从而控制了等离子体密度及能量分布,使等离子体在真空腔内分布均匀化。另外,这种外加的电磁场还会使磁控装置本体磁场增强,对磁控溅射产生的等离子体起到增强作用。此结果为磁控溅射装置上磁场配置提供重要参考依据。
王晓明高健波周艳文
关键词:磁场分布磁控溅射数值模拟
透明导电薄膜(Ⅰ):掺杂透明导电氧化物薄膜
2021年
透明导电氧化物薄膜具有良好的光电性能。作为前电极,此类半导体材料薄膜广泛应用于半导体器件。本文以典型的掺杂TCO薄膜为切入点,综述了透明导电氧化物薄膜的发展历史及应用,重点阐述了几种典型掺杂TCO薄膜的结构特征、光电特性、制备方法及应用展望。
闫彩波周艳文王鼎
关键词:透明导电氧化物薄膜掺杂结构特征光电性能
脉冲偏压对低温氮化不锈钢表面结构及摩擦学性能的影响被引量:6
2017年
采用低温等离子体辅助氮化奥氏体不锈钢316L,能够在不破坏其抗腐蚀性能的同时有效提高不锈钢表面的摩擦学性能,研究了不同脉冲偏压下氮化层的结构和摩擦学性能(硬度、摩擦系数和耐磨性)。采用X射线衍射仪研究了脉冲偏压对氮化层相结构的影响;采用光学显微镜和扫描电镜分别观察了氮化层表面和横截面的形貌,并利用能量色散谱测量了氮化层中氮含量及其分布;基于纳米压痕和摩擦磨损结果,研究了脉冲偏压对氮化层摩擦学性能的影响。结果表明:低温氮化后,不锈钢表面形成一层无氮化物析出的单一过饱和固溶体相——扩展奥氏体γN,晶格常数随偏压的增加由0.359增至0.395nm。当脉冲偏压为-300 V时,氮化层厚度达9.45μm,表面硬度达21.0 GPa,摩擦系数降低至0.09,耐磨性能获得显著提高。
郭媛媛滕越高建波张鑫黄选如谢志文周艳文
关键词:耐磨性
透明导电薄膜(Ⅱ):多元透明导电氧化物薄膜
2021年
透明导电薄膜具有可见光区透光及一定的导电性,包括金属基、氧化物基及其他化合物基透明导电薄膜等。以多元氧化物基透明导电氧化物(TCO)薄膜为对象,综述其组份、组织、相结构、禁带宽度、光电性能等方面的研究进展,并对多元和掺杂TCO薄膜的光电性能进行比较。
闫彩波周艳文王鼎杨东明
关键词:禁带宽度光电性能
共1页<1>
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