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国家自然科学基金(60476028)

作品数:6 被引量:10H指数:1
相关作者:张国义桑立雯岑龙斌周绪荣秦志新更多>>
相关机构:北京大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇理学

主题

  • 2篇氮化镓
  • 2篇AL
  • 2篇GAN
  • 1篇多量子阱
  • 1篇多量子阱结构
  • 1篇多元合金
  • 1篇性能表征
  • 1篇探测器
  • 1篇紫外光探测器
  • 1篇外量子效率
  • 1篇线位
  • 1篇肖特基
  • 1篇肖特基接触
  • 1篇量子效率
  • 1篇量子阱结构
  • 1篇铝镓氮
  • 1篇金属有机化学...
  • 1篇晶格
  • 1篇蓝光
  • 1篇蓝光LED

机构

  • 5篇北京大学
  • 1篇上海蓝光科技...

作者

  • 3篇张国义
  • 2篇章蓓
  • 2篇杨志坚
  • 2篇潘尧波
  • 2篇秦志新
  • 2篇周绪荣
  • 2篇岑龙斌
  • 2篇桑立雯
  • 2篇胡晓东
  • 1篇张小平
  • 1篇胡成余
  • 1篇徐科
  • 1篇沈波
  • 1篇鲁麟
  • 1篇俞大鹏
  • 1篇李睿
  • 1篇杨子文
  • 1篇廖辉
  • 1篇齐胜利
  • 1篇王彦杰

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇发光学报
  • 1篇半导体光电
  • 1篇Chines...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 2篇2010
  • 3篇2008
  • 3篇2007
6 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
Fabrication of dodecagonal pyramid on nitrogen face GaN and its effect on the light extraction
2010年
Wet etching has been widely used in defect evaluation for Ga-face GaN and surface roughness for N-face GaN dodecagonal pyramids has been fabricated on laser-lift-off N-face GaN by hot phosphor acid etching.The dodecagonal pyramid shows twelve facets including six{20-2-3}and six{22-4-5}planes.From cross-sectional TEM image,it is shown that the pyramid corresponds to the top of the edge dislocation.Compared with hexagonal pyramid-surface light emitting diodes(LEDs)etched by commonly used photoelectrochemical(PEC)process in KOH aqueous,the dodecagonal pyramid-surface LEDs show improved light extraction efficiency because of more facets,which effectively reduces the total internal reflection.
QI ShengLi,CHEN ZhiZhong,SUN YongJian,FANG Hao,TAO YueBin,SANG LiWen,TIAN PengFei,DENG JunJing,ZHAO LuBing,YU TongJun,QIN ZhiXin&ZHANG GuoYi State Key Laboratory for Artificial Microstructure and Mesoscopic Physics,School of Physics,Peking University,Beijing 100871,China
关键词:GANFACEWETETCHINGH3PO4PYRAMID
采用AlGaN/GaN阻挡层的大功率InGaN/GaN MQWs蓝光LED
大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p...
齐胜利陈志忠潘尧波郝茂盛邓俊静田朋飞张国义颜建锋朱广敏陈诚李士涛
关键词:氮化镓外量子效率
文献传递
p型GaN的Ni/Au合金电极的I-V特性
2007年
运用传输线方法(TLM)测量了p型GaN合金后的Ni/Au电极的接触电阻率和电流-电压(I-V)关系,推导了合金的Ni/Au电极和p型GaN接触处的电流密度与电压(J-V)的关系.在考虑热发射机制和镜像力的基础上,通过对p型GaN的Ni/Au合金电极的I-V特性分析,进一步得出势垒高Φb=0.41eV,受主浓度Na=4×1019cm-3,能带弯曲Vi=0.26V,和EF-Ev:0.15eV.这些结果与理论值和其他实验结果符合得很好.
王彦杰杨子文廖辉胡成余潘尧波杨志坚章蓓张国义胡晓东
关键词:P-GAN传输线
GaN基激光器多量子阱结构的性能表征与结构优化
2007年
研究了包括四元合金在内的三种多量子阱结构,对以此为有源层的激光器进行了性能表征和比较分析.通过对阈值电流和外微分量子效率的测量以及增益分布的模拟分析,证实了四元合金用于量子阱结构生长对提高激光器性能的作用.此外对优化的量子阱结构激光器的漏电流和增益饱和带来的影响进行了研究.
魏启元李倜王彦杰陈伟华李睿潘尧波徐科章蓓杨志坚胡晓东
关键词:氮化镓激光二极管多元合金
蓝宝石衬底上GaN/Al_xGa_(1-x)N超晶格插入层对Al_xGa_(1-x)N外延薄膜应变及缺陷密度的影响被引量:9
2008年
室温300 K下,由于AlxGa1-xN的带隙宽度可以从GaN的3.42 eV到AlN的6.2 eV之间变化,所以AlxGa1-xN是紫外光探测器和深紫外LED所必需的外延材料。高质量高铝组分AlxGa1-xN材料生长的一大困难就是AlxGa1-xN与常用的蓝宝石衬底之间大的晶格失配和热失配。因而采用MOCVD在GaN/蓝宝石上生长的AlxGa1-xN薄膜由于受张应力作用非常容易发生龟裂。GaN/AlxGa1-xN超晶格插入层技术是释放应力和减少AlxGa1-xN薄膜中缺陷的有效方法。研究了GaN/AlxGa1-xN超晶格插入层对GaN/蓝宝石上AlxGa1-xN外延薄膜应变状态和缺陷密度的影响。通过拉曼散射探测声子频率从而得到材料中的残余应力是一种简便常用的方法,AlxGa1-xN外延薄膜的应变状态可通过拉曼光谱测量得到。AlxGa1-xN外延薄膜的缺陷密度通过测量X射线衍射得到。对于具有相同阱垒厚度的超晶格,例如4 nm/4 nm,5 nm/5 nm,8 nm/8 nm的GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格,研究发现随着超晶格周期厚度的增加AlxGa1-xN外延薄膜缺陷密度降低,AlxGa1-xN外延薄膜处于张应变状态,且5 nm/5 nmGaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层AlxGa1-xN外延薄膜的张应变最小。在保持5 nm阱宽不变的情况下,将垒宽增大到8 nm,即十个周期的5 nm/8 nm GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层使AlxGa1-xN外延层应变状态由张应变变为压应变。由X射线衍射结果计算了AlxGa1-xN外延薄膜的刃型位错和螺型位错密度,结果表明超晶格插入层对螺型位错和刃型位错都有一定的抑制效果。透射电镜图像表明超晶格插入层使位错发生合并、转向或是使位错终止,且5 nm/8 nm GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层导致AlxGa1-xN外延薄膜中的刃型位错倾斜30°左右,释放一部分压应变。
周绪荣秦志新鲁麟沈波桑立雯岑龙斌张国义俞大鹏张小平
关键词:超晶格
307-325nm波长AlGaN基紫外光探测器被引量:1
2007年
通过在GaN缓冲层上先生长一层20 nm厚的AlN插入层,成功地在此插入层上生长出了200 nm厚的AlxGa1-xN(0.220.20时,其上Ni基肖特基势垒高度几乎是不变的。在O2氛围中,300℃下,对AlxGa1-xN材料上10 nm厚的金属Ni层氧化90 s,得到了此Ni层在314 nm的透射率由57.5%提高到78.2%。在器件的光电流谱测量中,得到了器件最短的截止波长为307 nm,紫外/可见光达到103以上。
岑龙斌桑立雯周绪荣秦志新张国义
关键词:ALGAN紫外光探测器肖特基接触
Effects of Ⅴ/Ⅲ ratio on species diffusion anisotropy inthe MOCVD growth of non-polar a-plane GaN films
2010年
Non-polar a-plane (110) GaN films have been grown on r-plane (102) sapphire substrates by metal organic chemical vapour deposition. The influences of Ⅴ/Ⅲ ratio on the species diffusion anisotropy of a-plane GaN films were investigated by scanning electron microscopy, cathodoluminescence and high-resolution x-ray diffraction measurements. The anisotropy of a-plane GaN films may result from the different migration length of adatoms along two in-plane directions. Ⅴ/Ⅲ ratio has an effect on the growth rates of different facets and crystal quality. The stripe feature morphology was obviously observed in the film with a high V/III ratio because of the slow growth rate along the [100] direction. When the Ⅴ/Ⅲ ratio increased from 1000 to 6000, the in-plane crystal quality anisotropy was decreased due to the weakened predominance in migration length of gallium adatoms.
赵璐冰于彤军吴洁君杨志坚张国义
关键词:GAN薄膜MOCVD生长金属有机化学气相沉积
Crystalline quality of InxAl1-xN with different indium contents around lattice-matched to GaN
200 nm thick InxAl1-xN epilayers around lattice-matched to GaN were grown on GaN templates by MOGVD.The elasti...
Zhenlin MiaoTongjun YuBo ShenFujun XuJie SongFang LinLubing ZhaoZhijian Yang
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