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上海市科学技术委员会资助项目(08706200802)

作品数:3 被引量:7H指数:1
相关作者:赖宗声田亮周进黄爱波陈磊更多>>
相关机构:华东师范大学更多>>
发文基金:上海市科学技术委员会资助项目上海市教育委员会重点学科基金上海-AM基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇电路
  • 1篇等离子体
  • 1篇电路设计
  • 1篇淀积
  • 1篇射频
  • 1篇射频开关
  • 1篇射频识别
  • 1篇气相淀积
  • 1篇驱动放大器
  • 1篇介质
  • 1篇开关
  • 1篇开关电路
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇混频
  • 1篇混频器
  • 1篇隔离度
  • 1篇放大器
  • 1篇高隔离
  • 1篇高隔离度
  • 1篇高密度等离子...

机构

  • 3篇华东师范大学

作者

  • 2篇赖宗声
  • 1篇陈磊
  • 1篇黄爱波
  • 1篇王鹏
  • 1篇石艳玲
  • 1篇张润曦
  • 1篇马和良
  • 1篇周进
  • 1篇何伟
  • 1篇徐萍
  • 1篇田亮

传媒

  • 1篇电子器件
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微电子学

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
低插入损耗高隔离度SOI射频开关电路的研究被引量:5
2009年
基于0.18μm RF SOI CMOS工艺,提出了一种可广泛应用于无线通信系统中的低插入损耗高隔离度SOI射频开关电路。该电路利用SOI器件的特殊结构(隐埋氧化层BOX,高阻衬底)和特殊SOI器件(FB,BC,BT等),使电路采用的器件较之体硅CMOS器件具有更优的隔离性能,实现了降低插入损耗和增加隔离度的目的。该电路经过模拟仿真,在频率为2.4GHz时,插入损耗和隔离度分别为-1dB和40dB。
田亮陈磊周进黄爱波赖宗声
关键词:SOI射频开关CMOS高隔离度
HDP介质淀积引起的等离子充电损伤机制研究被引量:1
2009年
高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD),具有卓越的填孔能力和可靠的电学特性等诸多优点,因此它被广泛应用于超大规模集成电路制造工艺中。本文研究了金属层间介质(IMD)的HDP CVD过程对栅氧化膜的等离子充电损伤。研究表明在HDP淀积结束时的光电导效应使得IMD层(包括FSG和USG)在较短的时间内处于导电状态,较大电流由IMD层流经栅氧化膜,在栅氧化膜中产生缺陷,从而降低了栅氧化膜可靠性。通过对HDP CVD结束后反应腔内气体组分的调节,IMD层的光电导现象得到了一定程度的抑制,等离子充电损伤得到了改善。
王鹏卜皎刘玉伟曹刚石艳玲刘春玲李菲孙玲玲
便携式UHF RFID阅读器中发射前端电路设计被引量:1
2010年
采用0.18μm CMOS工艺设计并制作了一款应用于便携式UHFRFID阅读器的射频发射前端电路。所设计的有源I/Q上混频器通过开关控制Q支路的信号输入,实现了EPC Global Class-1Gen-2协议中所要求3种调制方式;驱动放大器通过实现增益7级数字可调有效地预放大混频器的输出信号。在1.8V的电源电压下,测得阅读器前端电路的主要性能参数如下:上混频器的输入端P1dB,达到-14.9dBVrms,转换增益和噪声系数分别为3.18dB和13.20dB;驱动放大器的输出端P1dB在50Ω阻抗上达到3.5dBm,转换增益可调范围和噪声系数变化范围,分别为7.90~16.30dB和3.10~5.00dB。
徐萍何伟张润曦马和良赖宗声
关键词:驱动放大器射频识别超高频
共1页<1>
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