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国家重点实验室开放基金(ZZKT200901)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：李金龙黄晓东余忠李雪孙科更多>>
相关机构：电子科技大学更多>>
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相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇膜厚
  • 1篇溅射
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁性能

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇兰中文
  • 1篇孙科
  • 1篇李雪
  • 1篇余忠
  • 1篇黄晓东
  • 1篇李金龙

传媒

  • 1篇磁性材料及器...

年份

  • 1篇2012
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排序方式：
薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
2012年
采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
李雪余忠孙科李金龙黄晓东兰中文
关键词：射频磁控溅射薄膜厚度磁性能
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