国家自然科学基金(51275433)
- 作品数：7 被引量：18H指数：3
- 相关作者：姜涛胡陈林郭隐彪叶卉杨炜更多>>
- 相关机构：厦门大学华侨大学中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项福建省自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺理学更多>>
- 二次椭圆-偏心正圆组合活塞裙部加工算法优化及轨迹点计算被引量：2
- 2014年
- 二次椭圆-偏心正圆活塞在车用活塞领域得到了越来越广泛的应用,但加工精度普遍较低.详细介绍了二次椭圆-偏心正圆活塞的形状特征,并建立二次椭圆-偏心正圆活塞的数学模型.为了提高此类活塞的加工精度,运用变截面螺旋线轨迹算法,在此基础上,通过MATLAB生成二次椭圆-偏心正圆活塞的加工轨迹点坐标.
- 吴海韵姜涛常小龙郭隐彪
- 关键词：组合活塞数学模型
- 伺服加工平台的综合误差建模与补偿被引量：1
- 2017年
- 伺服加工平台的几何误差是影响工件加工形貌精度的重要因素。在多体系统理论的基础上,首先,运用低序体阵列描述伺服平台多体系统的拓扑结构,建立各相邻体间的齐次变换矩阵,构建其综合误差模型;其次,利用雷尼绍测量系统对平台的定位误差、直线度误差、俯仰误差、偏摆误差以及两轴之间的垂直度误差进行辨识,将辨识得到的误差值代入构建的模型得出平台几何综合误差;最后,选择凸锥面、平面、球面3种面型工件补偿试验,对误差模型进行原理性验证。研究表明,经补偿后加工所得3种面型工件表面精度均提高了25%左右,证实了提出的补偿方法可用于伺服加工平台几何误差控制。
- 彭云峰张彬文黄自强苏星
- 关键词：多体系统误差补偿
- 超精密切削加工表面粗糙度影响因素的实验
- 为了优化超精密飞刀切削加工表面的粗糙度,对超精密飞刀切削加工主要参数的变化进行了实验研究。根据超精密飞刀切削加工机床加工原理,分析了影响加工工件表面质量的因素。使用控制变量法对不同的切削参数进行了实验和理论分析的对比,以...
- 毕果孙郅佶张剑锋王振忠安晨辉
- 关键词：表面粗糙度主轴转速进给速度
- 文献传递
- 气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响
- 2015年
- 为了寻找消除中频误差的有效抛光路径,进行了2组实验.第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验先采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进普里姆(Prim)算法的路径对其进行加工,最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,从而验证基于改进Prim算法的抛光路径的优良性.
- 林桂丹毕果胡陈林姜涛彭云峰
- 光学元件磨削加工亚表面损伤检测研究被引量：6
- 2014年
- 基于氢氟酸刻蚀对光学元件亚表面裂纹影响的刻蚀模型,将化学刻蚀、逐层抛光技术和激光共聚焦扫描技术相结合,提出了一种磨削加工光学元件亚表面损伤的检测方法。实验证实该方法得到的亚表面损伤深度与公认的亚表面损伤预测模型的预测结果吻合性较好,是一种可靠的亚表面深度检测方法。
- 胡陈林毕果叶卉李洪友
- 关键词：蚀刻抛光
- 光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究被引量：2
- 2015年
- 基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响.结果表明:充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大,去除效率随气囊充气压强增大先升高到2.08mm3/min后逐渐降低然后又升高,压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率,分别可以达到6.84mm3/min和5.04mm3/min.
- 姜涛郭隐彪王詹帅林桂丹
- 关键词：气囊抛光工艺参数去除函数
- 基于经验模态分解-Wigner分布的光学元件中频误差识别被引量：3
- 2014年
- 对于大尺寸高精密光学元件,不仅要对光学元件表面低频面形精度和高频粗糙度进行控制,还需要严格限制中频误差,以保证其使用性能和稳定性.为了确定光学元件的不合格区域并指导其返修,引入经验模态分解（EMD）和Wigner分布（WVD）函数方法,通过理论分析确定该方法与功率谱密度函数间的关系,实现对光学元件表面中频误差的辨识与定位.实验结果表明：EMDWVD方法不仅可以识别分布在实验光学元件表面15～27 mm空间频率为0.1mm-1的中频误差,还可以减小多分量信号所引起的空间频率为1.0～1.5 mm-1的交叉项干扰,提高中频误差辨识的准确率.
- 姜涛杨炜郭隐彪王健
- 关键词：经验模态分解WIGNER分布
- 光学元件亚表面损伤深度及形貌研究被引量：6
- 2013年
- 根据化学蚀刻法,提出了一种光学元件亚表面损伤的检测方法,分别观测了磨削和抛光后K9玻璃蚀刻后的亚表面损伤。研究表明:光学元件磨削亚表面损伤在光学显微镜下的表现形式为弹坑状缺陷和脆性裂纹;光学元件抛光后也产生了亚表面缺陷,其在AFM下的表现形式为细长条纹状划痕。
- 吴沿鹏杨炜叶卉胡陈林
- 关键词：光学元件抛光蚀刻
