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国家自然科学基金(51101028)

作品数:8 被引量:8H指数:2
相关作者:余忠孙科兰中文许志勇朱光伟更多>>
相关机构:电子科技大学成都工业学院全球能源互联网研究院有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基金国家电网公司科技项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 7篇理学
  • 5篇电气工程
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇溅射
  • 5篇磁性能
  • 4篇铁氧体
  • 3篇射频磁控
  • 3篇射频磁控溅射
  • 3篇膜厚
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇形貌
  • 2篇铁氧体薄膜
  • 2篇溅射功率
  • 2篇薄膜厚度
  • 2篇钡铁氧体
  • 2篇钡铁氧体薄膜
  • 1篇单层膜
  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇氧含量
  • 1篇双层膜
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁共振

机构

  • 7篇电子科技大学
  • 2篇成都工业学院
  • 1篇四川大学
  • 1篇国网辽宁省电...
  • 1篇全球能源互联...

作者

  • 5篇兰中文
  • 5篇孙科
  • 5篇余忠
  • 3篇朱光伟
  • 3篇许志勇
  • 2篇张霞
  • 2篇杨艳
  • 1篇李强
  • 1篇李雪
  • 1篇柴治
  • 1篇蒋晓娜
  • 1篇黄晓东
  • 1篇杨长龙
  • 1篇李金龙
  • 1篇曾玉琴

传媒

  • 7篇磁性材料及器...
  • 1篇Intern...

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
溅射功率对M型钡铁氧体薄膜磁性能的影响被引量:1
2013年
采用射频磁控溅射法制备了c轴垂直膜面取向的M型钡铁氧体(BaM)薄膜,研究了溅射功率对BaM薄膜取向及磁性能的影响。结果表明,在溅射功率为80W、110W、140W和170W时所制备的BaM薄膜均具有一定程度的c轴垂直膜面取向,但溅射功率的增高会造成薄膜内晶粒取向混乱,导致薄膜磁晶各向异性降低;当溅射功率为140W时,薄膜具有最高饱和磁化强度(Ms)303kA/m和最小面外方向矫顽力(Hc⊥)191kA/m;适当低的溅射功率更有利于制得磁晶各向异性强的薄膜。
朱光伟余忠孙科许志勇张霞兰中文
关键词:射频磁控溅射溅射功率C轴取向磁性能
膜厚对NiFe单层膜及NiFe/FeMn双层膜性能的影响对比研究被引量:4
2020年
采用直流磁控溅射法在Si(111)基片上制备不同厚度的NiFe单层膜、NiFe/FeMn双层膜,结合原子力显微镜(AFM)、振动样品磁强计(VSM)及电子顺磁共振(EPR)波谱仪研究了纳米膜的微观形貌、表面粗糙度、静磁性能及微波磁性能。结果表明,相对于NiFe单层膜,反铁磁性覆盖层FeMn的引入,使NiFe/FeMn双层膜的共振场(Hres)下降,与自旋波共振相关的有效交换场得以提升,说明在一定的外加稳恒磁场下,利用铁磁/反铁磁(FM/AF)多层膜结构所产生的钉扎效应能够提高薄膜的共振频率。在20~70 nm的NiFe薄膜厚度范围内,单层膜的共振场为1289~1354Oe,而双层膜的共振场降至1089~1118 Oe。
钟秋雨刘昕陈川孙科邬传健郭荣迪余忠兰中文
关键词:形貌磁性能
Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层对NiZn铁氧体双层膜性能的影响被引量:2
2020年
采用旋转喷涂法在Si(100)基片上制备Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4(100 nm)铁氧体薄膜作为种子层,然后在种子层上采用射频磁控溅射法沉积Ni0.25Cu0.09Zn0.66Fe1.998O4(600 nm)铁氧体薄膜。研究了种子层对NiZn铁氧体双层膜微观形貌、饱和磁化强度、矫顽力、磁导率及截止频率的影响。结果表明,Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层的引入促进了NiZn铁氧体双层膜尖晶石相的晶化和晶粒生长。NiZn铁氧体双层膜的饱和磁化强度Ms为420 kA/m,矫顽力Hc为5.9kA/m,截止频率fr为1.37 GHz,磁导率μ’(300 MHz)高达202。
闫妍孙科杨长龙王炜郭荣迪蒋晓娜余忠兰中文
关键词:矫顽力磁导率
氧含量与溅射气压对NiO薄膜形貌和结构的影响被引量:2
2014年
利用直流反应磁控溅射在O2和Ar混合气氛下,在Si(111)衬底上沉积NiO薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜晶体结构及形貌进行分析,研究了氧含量和溅射气压对NiO薄膜择优取向和表面形貌的影响。结果表明:低氧含量下,NiO(220)晶面择优生长,薄膜表面为典型的蠕状结构;较高氧含量下,薄膜择优(111)晶面生长,织构呈现有序状态;随着溅射气压的增高,择优取向先变差再变明显,薄膜晶粒先增大后减小。
曾玉琴杨艳余忠孙科朱光伟许志勇兰中文
关键词:氧含量溅射气压微观结构形貌
薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
2012年
采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
李雪余忠孙科李金龙黄晓东兰中文
关键词:射频磁控溅射薄膜厚度磁性能
厚度对M型钡铁氧体薄膜结构及磁性能的影响被引量:1
2015年
采用射频(RF)磁控溅射法在蓝宝石基片上制备M型钡铁氧体(BaM)薄膜,研究了薄膜厚度对BaM铁氧体薄膜的结构及磁性能影响.结果显示,样品的衍射峰全部为BaM薄膜的(00l)衍射峰,表明样品都具有良好的c轴取向性.显微结构分析结果表明,在膜厚为40~90nm范围内,薄膜样品表面主要为c轴取向的片状晶粒,未出现c轴随机取向的针状晶粒;当样品厚度增加至140nm时,出现了较明显的针状晶粒;随着薄膜厚度进一步增加到190nm时,样品表面出现了大量c轴随机取向的针状晶粒,且部分针状晶粒长度达到了μm级.磁性能测试结果显示,随着薄膜厚度的增加,薄膜样品饱和磁化强度降低,垂直膜面方向矫顽力和剩磁比减小,膜厚40~90nm范围的薄膜在垂直膜面方向获得了最大剩磁比和矫顽力,表现出较好的磁晶各向异性.
郭辉莉杨艳柴治孙科李强余忠蒋晓娜兰中文
关键词:射频磁控溅射薄膜厚度磁性能
基片温度对Ni_(81)Fe_(19)薄膜磁性能的影响
2013年
采用电子束蒸发法在Si(111)基片上制备厚度约为100nm的Ni81Fe19薄膜,研究了基片温度对薄膜微观结构及磁性能的影响。结果表明,随着基片温度的升高,Ni81Fe19薄膜(111)衍射峰逐渐锐化,衍射峰强度显著增强,薄膜晶粒逐渐长大;薄膜的饱和磁化强度(Ms)及面内矫顽力(Hc)随基片温度的升高均逐渐增大;随着基片温度的升高,薄膜在9GHz下的共振场(Hr)呈单调降低的趋势,而铁磁共振线宽(ΔH)则先减小后增大最后基本保持不变。当基片温度为100℃时,薄膜铁磁共振线宽具有最小值ΔH=7.44kA/m(9GHz)。
张霞兰中文孙科余忠许志勇朱光伟
关键词:电子束蒸发基片温度磁性能铁磁共振线宽
Structural and magnetic properties of ZnFe_2O_4 films deposited by low sputtering power
2012年
To validate the correctness of the Hartman-Perdok Theory(HPT),which indicates that the {111} planes have the lowest surface energy in spinel ferrites,the {111} plane orientated ZnFe_2O_4 thin films on Si(100),Si(111),and SiO 2(500 nm)Si(111) substrates were obtained through a radio frequency(RF) magnetron sputtering method with a low sputtering power of 80 W.All of the experiments prove that the atom energy determined by sputtering power plays an important role in the orientated growth of the ZnFe 2 O 4 thin films,and it matches well with HPT.The ZnFe_2O_4 thin films exhibit ferromagnetism with a magnetization of 84.25 kJmol at room temperature,which is different from the bulk counterpart(antiferromagnetic as usual).The ZnFe_2O_4 thin films can be used as high-quality oriented inducing buffer layers for other spinel(Ni,Mn)Zn ferrite thin films and may have high potential in magnetic thin films-based devices.
Jin-long LiZhong YuKe SunXiao-na JiangZhong-wen Lan
关键词:溅射功率磁学性质尖晶石型铁氧体SI(111)SI(100)磁性薄膜
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