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国家自然科学基金(50771051)

作品数:4 被引量:26H指数:3
相关作者:陈力蔡宏中胡昌义魏巧灵黎宪宽更多>>
相关机构:昆明贵金属研究所昆明理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金云南省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺冶金工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇冶金工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇气相沉积
  • 2篇金属
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 1篇有机化合物
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇显微组织
  • 1篇难熔金属
  • 1篇金属有机
  • 1篇金属有机化合...
  • 1篇化合物
  • 1篇化学气相沉积...
  • 1篇PLATIN...
  • 1篇PREPAR...
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇ALLOY
  • 1篇CVD
  • 1篇FILMS

机构

  • 3篇昆明贵金属研...
  • 1篇昆明理工大学

作者

  • 3篇胡昌义
  • 3篇蔡宏中
  • 3篇陈力
  • 2篇魏巧灵
  • 1篇魏燕
  • 1篇毛传军
  • 1篇王云
  • 1篇黎宪宽

传媒

  • 2篇稀有金属材料...
  • 1篇稀有金属
  • 1篇贵金属

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
钽的CVD动力学规律及显微组织被引量:4
2011年
简述氢气还原氯化钽化学气相沉积钽(CVD)的主要原理,研究氯化、氯气流量、氢气流量和沉积温度4个参数对沉积速率及沉积层显微组织的影响。结果表明:氯化温度对沉积速率的影响最小,沉积温度的影响最大;显微组织由小晶粒区和柱状晶区组成,沉积参数改变,柱状晶晶粒大小发生变化。
魏巧灵蔡宏中陈力魏燕毛传军胡昌义
关键词:CVD沉积速率显微组织
Platinum-Iridium Alloy Films Prepared by MOCVD
2012年
Platinum-Iridium alloy films were prepared by MOCVD on Mo substrate using metal-acetylacetonate precursors. Effects of deposition conditions on composition, microstructure and mechanical properties were determined. In these experimental conditions, the purities of films are high and more than 99.0%. The films are homogeneous and monophase solid solution of Pt and Ir. Weight percentage of platinum are much higher than iridium in the alloy. Lattice constant of the alloy changes with the platinum composition. Iridium composition showing an up-down-up trend at the precursor temperature of 190~230℃ and the deposition temperature at 400~ 550℃. The hardness of Pt-Ir alloys prepared by MOCVD is three times more than the alloys prepared by casting.
WEI YanCHEN LiCAI HongzhongZHENG XuYANG XiyaHU Changyi
关键词:FILMS
化学气相沉积技术及在难熔金属材料中的应用被引量:13
2010年
简述了化学气相沉积技术(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)的发展历程及其应用领域;重点阐述CVD技术在难熔金属(W、Re、Ta、Mo、Nb)相关领域的应用概况并展望了其研究前景,特别指出CVD技术在制备难熔金属合金研究上存在的挑战和机遇。
黎宪宽陈力蔡宏中魏巧灵胡昌义
关键词:化学气相沉积
金属有机化合物化学气相沉积法制备铱薄膜的研究被引量:9
2009年
以乙酰丙酮铱为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在钼基体上制备了铱薄膜。研究了铱的沉积速率与基体温度、乙酰丙酮铱的加热温度和运载气体(Ar)流速等沉积参数的关系。铱薄膜的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程:沉积速率与绝对温度的倒数呈抛物线关系,当温度为750℃时,铱的沉积速率达到最大值,基体温度对薄膜质量有显著影响;随着以乙酰丙酮铱加热温度的升高,铱的沉积速率直线增加;而Ar流速的增大则显著减小铱的沉积速率。
蔡宏中胡昌义陈力王云
关键词:
共1页<1>
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