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国家高技术研究发展计划(2012AA041002)

作品数:5 被引量:5H指数:2
相关作者:徐龙权刘新卫方颂唐子涵王光绪更多>>
相关机构:南昌大学闽南师范大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家科技支撑计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇MOCVD
  • 2篇氮化镓
  • 1篇电耦合
  • 1篇压强
  • 1篇应力
  • 1篇应力变化
  • 1篇优化设计
  • 1篇数据采集
  • 1篇数据处理
  • 1篇喷头
  • 1篇人机
  • 1篇人机界面
  • 1篇均匀性
  • 1篇缓冲层
  • 1篇加高
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇硅衬底
  • 1篇二极管
  • 1篇发光

机构

  • 4篇南昌大学
  • 1篇闽南师范大学

作者

  • 3篇徐龙权
  • 2篇唐子涵
  • 2篇方颂
  • 2篇刘新卫
  • 1篇熊传兵
  • 1篇江风益
  • 1篇黄斌斌
  • 1篇张超宇
  • 1篇汤英文
  • 1篇刘军林
  • 1篇王光绪

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报
  • 1篇华侨大学学报...
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇机械科学与技...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2015
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
Influence of growth rate on the carbon contamination and luminescence of GaN grown on silicon被引量:2
2015年
The unintentional carbon doping concentration of GaN films grown by low pressure metal organic chemical vapor deposition (LP-MOCVD) depends strongly on the growth rate. The concentration of carbon is varied from 2.9 × 1017 to 5.7 × 10^18 cm-3 when the growth rate increases from 2.0 to 7.2 μm/h, as detected by secondary ion mass spectroscopy. It is shown that the presence of N vacancies give rises to high carbon concentration. We show that a reduction of the carbon concentration by one order of magnitude compared to the regular sample with nearly same growth rate can be achieved by operating at an extremely high NH3 partial pressure during growth. The intensity ratios of yellow and blue luminescence to band edge luminescence in the samples are found to depend significantly on carbon concentration. The present results demonstrate direct and quantitative evidence that the carbon related defects are the origin of yellow and blue luminescence.
毛清华刘军林吴小明张建立熊传兵莫春兰张萌江风益
加高喷头MOCVD压强对生长影响的研究
2015年
以低速旋转、加高喷头、垂直喷淋的MOCVD反应室为对象,运用三维数学输运模型分析与计算。在模拟过程中分析了压强的变化对高喷头反应室流场的影响,着重分析与讨论了操作压强变化与Ga N薄膜的沉积一致性及平均生长速率的关系,其次探讨了实验值与模拟值对比结果,从而对薄膜的均匀性及平均生长速率进行一定的预测,最终得到以基准工艺参数为前提的最佳压强设定范围为6650~13300 Pa。模拟跟实验结果表明:减小压强有利于薄膜的均匀性,压强较大时,平均生长速率大,但压强较大时极易引起流场不稳。
徐龙权唐子涵曹盛张建立
关键词:MOCVDGAN生长均匀性
MOCVD原位监测系统的设计与实现
2018年
设计以TSMF32028335和AD7656为核心的数据采集与处理系统,采用以太网芯片W5300实现开发板与上位机的TCP/IP通信.作为监控端的上位机,采用通过Delphi开发的集数据处理、存储、显示与监控于一体的平台,且具有良好的人机交互界面.应用于自主研发的金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)设备,测试结果表明:该设计具有采集数据准确、通信快速稳定、人机界面友好、程序运行流畅的特点,完全符合工程控制要求.
徐龙权徐龙权刘新卫刘新卫
关键词:数据采集数据处理人机界面
氮化镓MOCVD感应加热装置的优化设计被引量:2
2017年
为了设计一款成本低、效率高的中频感应加热器样机,利用ANSYS软件对感应加热立式氮化镓MOCVD反应室建立2D模型。首先分别通过改变加热线圈与石墨基座下表面距离及线圈之间的间距,研究分析其改变对石墨盘表面温度均匀性分布的影响,热-电耦合分析结果表明减小线圈和石墨之间的垂直距离及线圈之间的距离可以提高加热效率,并根据仿真结果对感应加热器的结构进行优化设计,确定加热效果较好的加热器结构。结合仿真与分析结果,制作出一台感应加热器样机。实验验证可知,石墨盘表面温度浮动在0.2%,温度分布均匀性较好,符合工艺的要求,满足生产条件。
徐龙权徐龙权刘新卫唐子涵
关键词:MOCVDANSYS优化设计
图形硅衬底GaN基发光二极管薄膜去除衬底及AlN缓冲层后单个图形内微区发光及应力变化的研究被引量:1
2015年
研究了图形硅衬底上外延生长的氮化镓(GaN)基发光二极管(LED)薄膜、去除硅衬底后的无损自由状态LED薄膜以及去除氮化铝(AlN)缓冲层后的自由状态LED薄膜单个图形内的微区光致发光(PL)性能,用荧光显微镜与扫描电镜观测了去除.AlN缓冲层前后LED薄膜断面弯曲状况的变化.研究结果表明:1)去除硅衬底后,自由支撑的LED薄膜朝衬底方向呈柱面弯曲状态,且相邻图形的柱面弯曲方向不一致,当进一步去除AlN缓冲层后薄膜会由弯曲变为平整;2)LED薄膜在去除硅衬底前后同一图形内不同位置的PL谱具有显著差异,而当去除AlN缓冲层后不同位置的PL谱会基本趋于一致;LED薄膜每一位置的PL谱在去除硅衬底后均出现明显红移,进一步去除AlN缓冲层后PL谱出现程度不一的微小蓝移;3)自由支撑的LED薄膜去除AlN缓冲层后,PL光强随激光激发密度变化的线性关系增强,光衰减得到改善.
张超宇熊传兵汤英文黄斌斌黄基锋王光绪刘军林江风益
关键词:氮化镓发光二极管光致发光
共1页<1>
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