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国家自然科学基金(60978043)

作品数:4 被引量:12H指数:2
相关作者:冯云鹏程灏波王涌天董志超王谭更多>>
相关机构:北京理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学一般工业技术机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 1篇天文地球
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇相位测量
  • 2篇光学
  • 1篇曲面
  • 1篇去除函数
  • 1篇子孔径
  • 1篇子孔径拼接
  • 1篇自由曲面
  • 1篇相位
  • 1篇相位测量轮廓...
  • 1篇相位误差
  • 1篇经验模式分解
  • 1篇光学加工
  • 1篇光学研究
  • 1篇PHASE
  • 1篇SAS技术
  • 1篇SURFAC...
  • 1篇ERROR
  • 1篇STITCH...
  • 1篇SUBAPE...
  • 1篇RESTRA...

机构

  • 2篇北京理工大学

作者

  • 2篇程灏波
  • 2篇冯云鹏
  • 1篇王谭
  • 1篇董志超
  • 1篇王涌天

传媒

  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇北京理工大学...
  • 1篇Scienc...
  • 1篇Fronti...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Phase-error restraint with the empirical mode decomposition method in phase measurement profilometry
2012年
Phase measurement profilometry(PMP) uses a digital projector and a camera for 3D shape measurement.However,the nonlinear response of the measurement system causes the captured perfect sinusoidal fringe patterns to become non-sinusoidal waveforms,which results in phase and measurement errors.We perform a theoretical analysis of the phase error resulting from non-sinusoidal fringe patterns.Based on a derived phase-error expression,the empirical mode decomposition(EMD) method is introduced to restrain nonlinear phase error and improve the precision in evaluating the phase distribution.A computer simulation and experimental results prove that the proposed method can eliminate possible phase-error in PMP.
WEN YongFu CHENG HaoBo GAO Ya ZHANG HuiJing
关键词:相位测量轮廓术相位误差经验模式分解
High precision mode of subaperture stitching for optical surfaces measurement被引量:1
2013年
Huijing ZHANGHaobo CHENGHon Yuen TAMYongfu WENDongmei ZHOU
关键词:子孔径拼接SAS技术相位测量
自由曲面光学研究被引量:8
2009年
自由曲面光学是先进光学工程领域的前沿代表性技术之一。在成像系统中,该技术可以矫正像差、提高成像质量、减小系统单元数量及重量;在高性能照明系统设计中,该技术不仅可以有效提高光能利用率,更可消除系统对照明方向性的严格要求,并且提供了很大的设计自由度。从系统设计、元件制造及检测方法角度对自由曲面光学进行阐述,提炼关键技术并探讨实施手段和方案。
程灏波冯云鹏王涌天
关键词:自由曲面
典型光学加工中边缘效应仿真分析被引量:3
2011年
为分析光学加工中边缘效应对元件最终面形精度的影响,建立了数控小磨头行星式抛光去除函数模型和射流式工具加工的去除函数模型.通过对抛光过程中磨料载体的微观状态的研究,探讨并仿真了两种抛光方式在不同区域抛光速度分布、抛光压力分布和抛光中Preston系数的变化.通过对比分析这些参数的变化对材料去除影响,表明光学加工过程中磨料载体中分子间的作用力对边缘效应产生的影响不可忽略.
王谭程灏波冯云鹏董志超
关键词:去除函数
共1页<1>
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