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国家重点基础研究发展计划(2012CB619202)

作品数:3 被引量:0H指数:0
相关作者:张永刚顾溢王凯方祥周立更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇射线衍射
  • 2篇光致
  • 2篇光致发光
  • 2篇发光
  • 2篇X射线衍射
  • 1篇晶格匹配
  • 1篇化合物半导体
  • 1篇缓冲层
  • 1篇过冲
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇半导体
  • 1篇XGA
  • 1篇INALAS
  • 1篇INP衬底
  • 1篇INP基
  • 1篇衬底
  • 1篇X
  • 1篇AS
  • 1篇BUFFER...

机构

  • 2篇中国科学院
  • 2篇中国科学院研...

作者

  • 2篇周立
  • 2篇方祥
  • 2篇王凯
  • 2篇顾溢
  • 2篇张永刚
  • 1篇李成
  • 1篇刘克辉
  • 1篇曹远迎

传媒

  • 2篇红外与毫米波...
  • 1篇Journa...

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
组分过冲对InP基InAlAs递变缓冲层的影响(英文)
2013年
通过在InP基InxAl1-x As递变缓冲层上生长In0.78Ga0.22As/In0.78Al0.22As量子阱和In0.84Ga0.16As探测器结构,研究了缓冲层中组分过冲对材料特性的影响.原子力显微镜结果表明,在InAlAs缓冲层中采用组分过冲可以使量子阱及探测器样品表面粗糙度都得到降低.对于相对较薄的量子阱结构,X射线衍射倒易空间扫描图和光致发光谱的测量表明,使用组分过冲可以增加弛豫度、减小剩余应力并改善光学性质.而对于较厚的探测器结构,X射线衍射和光致发光谱测试发现使用组分过冲后的材料性质没有明显的变化.量子阱和探测器结构的这些不同特性需要在器件设计应用中加以考虑.
方祥顾溢张永刚周立王凯李好斯白音刘克辉曹远迎
关键词:INALAS缓冲层X射线衍射光致发光
InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)
2012年
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法.
王凯顾溢方祥周立李成李好斯白音张永刚
关键词:化合物半导体分子束外延X射线衍射光致发光
InP-based In_xGa_(1-x)As metamorphic buffers with different mismatch grading rates
2013年
Linearly graded In_xGa_(1-x)As metamorphic buffers with different mismatch grading rates were grown on InP substrate by gas source molecular beam epitaxy.Room temperature photoluminescence spectra show that the sample with lower mismatch grading rate in the buffer has stronger photoluminescence signal,indicating the improved optical property.Atomic force microscope images show that the lower mismatch grading rate in the buffer leads to a slightly rougher surface.The relaxation procedure with two steps in the buffer layers has been observed by X-ray diffraction reciprocal space mapping.The measurements of X-ray diffraction also reveal that the lower mismatch grading rate in the buffer is beneficial for the lattice relaxation and release of residual strain.To further increase the relaxation degree,a lower mismatch grading rate and composition "overshoot" are suggested.
方祥顾溢陈星佑周立曹远迎李好斯白音张永刚
共1页<1>
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