上海市自然科学基金(11ZR1424600)
- 作品数：6 被引量：25H指数：3
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- TiSiN纳米复合结构涂层的研究进展被引量：8
- 2013年
- 简要介绍了TiSiN纳米复合涂层的晶体结构,主要从涂层的性能、制备方法、硅含量以及其它元素掺杂的影响等方面综述了TiSiN纳米复合涂层的研究进展,最后对其存在的主要问题和今后的发展方向进行了总结和展望。
- 赵永生李伟刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 关键词：纳米复合结构
- 纳米结构超硬薄膜的设计及致硬机理研究
- 超硬薄膜是指硬度超过40GPa的薄膜材料，对这类薄膜的研究和探索，一方面在科学上满足了人们在科学上寻求硬度接近甚至超过金刚石的好奇心，另一方面在工程上也满足了现代高速、干式加工业的发展对刀具、模具和刃具表面涂层材料提出的...
- 李伟刘平马凤仓刘新宽张柯陈小红何代华
- Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响被引量：5
- 2014年
- 采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶,用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响。结果表明:随着Si含量的增加,CrN相的结晶程度先增加后降低,涂层的力学性能先提高后降低,当n(Si):n(Ti)=7:18时获得最高硬度为31.5GPa。HRTEM观测表明,在n(Si):n(Ti)=7:18时,TiSiN层在CrN层的模板作用下呈面心立方结构,并且与CrN层形成共格外延生长结构;当n(Si):n(Ti)=11:14时,TiSiN层总体呈非晶结构,与CrN层的共格外生长结构被破坏。硬度的升高主要与TiSiN与CrN形成共格外延生长结构有关。
- 王建鹏李伟刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 关键词：CRNSI含量显微结构力学性能
- Si含量对TiAlSiN纳米复合涂层的微观结构和力学性能的影响被引量：7
- 2014年
- 采用不同Si含量的TiAlSi复合靶,在Si基底片上用射频磁控溅射工艺沉积了TiAlSiN纳米复合涂层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕技术研究了Si含量对TiAlSiN涂层的微观结构和力学性能的影响.结果表明:TiAlSiN涂层内部形成了Si3N4界面相包裹TiAlN纳米等轴晶粒的纳米复合结构.随着Si含量的增加,TiAlSiN涂层的结晶程度先增加后降低,涂层内部的晶粒尺寸先减小后趋于平稳,涂层的力学性能先升高后降低.当Si与TiAl原子比为3∶22时获得的最高硬度和弹性模量分别为37.1GPa和357.3 GPa.
- 李伟赵永生刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华王贝贝康祎炜
- 关键词：SI含量微观结构力学性能
- 纳米结构超硬薄膜的设计及致硬机理研究
- 超硬薄膜是指硬度超过40GPa的薄膜材料，对这类薄膜的研究和探索，一方面在科学上满足了人们在科学上寻求硬度接近甚至超过金刚石的好奇心，另一方面在工程上也满足了现代高速、干式加工业的发展对刀具、模具和刃具表面涂层材料提出的...
- 李伟刘平张柯马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 不同厚度二维VN插入层对TiSiN纳米复合膜微观结构和力学性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明:当TiSiN纳米复合膜中插入VN纳米层厚度较小时,薄膜由纳米复合结构转变成纳米多层结构,薄膜硬度降低。继续增加VN层厚度,薄膜硬度随之升高,在VN沉积层厚为0.5 nm时薄膜出现连续贯穿多层纳米层、结晶度良好的柱状晶,TiSiN层与VN层呈共格外延生长的结构,薄膜硬度达到37.2 GPa。随着VN层厚的继续增加,薄膜的共格外延生长结构消失,硬度下降。
- 薛增辉李伟刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 关键词：微观结构力学性能
- 射频磁控溅射法制备TiSiN纳米复合涂层的结构与性能研究被引量：3
- 2014年
- 采用射频磁控溅射工艺在Si基体上制备了TiN/Si3N4纳米复合结构涂层。对不同溅射气压、基片温度以及N2/Ar气流比条件下制备的TiN/Si3N4纳米复合涂层的结构和性能进行了研究和分析。结果表明:溅射气压、基片温度和N2/Ar气流比对TiN/Si3N4涂层的断面结构和力学性能均有显著影响,当溅射气压为0.4 Pa、沉积温度为300℃、N2/Ar气流比为5∶38时,涂层可获得最大硬度为34.4 GPa。
- 赵永生李伟刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 关键词：TINN2
- 射频磁控溅射法制备TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能研究被引量：2
- 2015年
- 采用射频磁控溅射工艺在Si基底上制备TiSiCN纳米复合膜,固定靶材中的Ti含量,通过改变Si和C的含量比沉积得到一系列薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪研究了不同Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明,Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和硬度具有显著影响,当Si/C含量比为Si2C2时制得薄膜的微观结构为晶化的界面相(SiNx+C)与其包裹的TiN纳米晶粒共格外延生长,薄膜硬度达到最高值46GPa。
- 薛增辉李伟卢建富刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华
- 关键词：纳米复合膜微观结构力学性能
