国家自然科学基金(60276001)
- 作品数:6 被引量:29H指数:4
- 相关作者:杨保和孙大智吴小国陈希明徐晟更多>>
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- 相关领域:电子电信一般工业技术理学化学工程更多>>
- 测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法被引量:6
- 2005年
- 提出一种基于平行板电容测微原理进行多层膜材料的测厚方法。该方法用有效电极直径Φ3 mm电容传感头,通过变化空气隙Δh进行多次测量,对输出电压V值进行线性拟合,得到空气隙与测量电压的关系,计算出被测厚度,测量精度达0.01μm。若采用有效电极直径Φ1 mm传感头,测量精度可达0.001μm。通过理论分析和实验证实,该方法不需对被测材料提前标定相对介电常数,不需特殊制备样件,是非接触测量,测量方法简单、成本低。因此适用于各种薄膜、特别是多层结构膜的无损膜厚测量及平面度测量。
- 陈希明马靖徐晟吴小国孙大智杨保和
- 关键词:多层膜结构薄膜厚度平面度测量测量电压传感头空气隙
- 金刚石声表面波器件的研制被引量:2
- 2006年
- 对ZnO/IDT/金刚石多层结构高频声表面波滤波器进行模拟设计、样件制备和测量.利用热丝化学气相沉积方法,在抛光S i基底沉积致密、光滑的CVD金刚石膜;采用磁控溅射法在金刚石薄膜上制备C轴取向的氧化锌压电薄膜.研制的ZnO/IDT/金刚石/硅结构SAW滤波器,叉指换能器(IDT)指宽1.7μm,SAW滤波器频率达到1.4 GHz.
- 徐晟陈希明杨晓苹杨保和
- 关键词:声表面波多层膜结构金刚石薄膜
- 用于SAW器件的C轴择优取向LiNbO_3薄膜的制备及结构研究被引量:4
- 2006年
- 采用射频(RF)磁控溅射法在金刚石(111)衬底上沉积LiNbO3(LN)薄膜,借助X射线衍射技术(XRD),研究了外加偏压(0~80V)和衬底温度(200~500℃)等工艺参数对LiNbO3薄膜结构和取向性的影响。实验结果表明,在衬底温度为200℃、外加偏压为~80V的T艺条件下,LiNbO3的(006)衍射峰强度超过LN的(012)衍射峰强度,在金刚石(111)衬底上获得较高c轴取向的LN薄膜。并且对C轴择优取向LN薄膜的形成机理进行了探讨。
- 杨保和陈希明赵捷杨晓苹徐晟李明
- 关键词:金刚石射频磁控溅射
- 适用SAW器件的高C轴取向ZnO薄膜制备及性能分析被引量:9
- 2005年
- 探讨了高性能ZnO薄膜的制备工艺,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和高阻仪对各种条件下制备的薄膜进行了表征分析。研究表明:在一定温度范围内随退火温度上升薄膜C轴取向性更优;同时O空位的填充、自由Zn原子的氧化使得薄膜电阻率提高至107Ω·cm数量级;600℃为最佳退火处理温度,600℃退火处理的ZnO薄膜粗糙度小(RMS为2.486nm),且晶粒均匀致密,表面平整,是适于制备声表面波(SAW)器件的高C轴取向、高电阻率及较平坦的ZnO薄膜。
- 王芳杨保和
- 关键词:ZNO薄膜SAW器件C轴取向薄膜电阻
- H_2-O_2混合气氛刻蚀制备金刚石纳米晶薄膜被引量:5
- 2006年
- 提供了在镜面抛光Si衬底上沉积平滑的纳米金刚石(NCD)薄膜的方法。采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)系统,利用H2、CH4和O2为前驱气体,在镜面抛光的Si基片上制备了直径为5 cm的NCD薄膜,用扫描电镜(SME)和共焦显微拉曼光谱分析其表面形貌和结构特点。分析表明,利用这种方法可以制备出高sp3含量的NCD薄膜。通过与沉积时间加长而沉积条件相同情况下合成的金刚石微晶薄膜形貌相对比,分析了H2-O2混合气氛刻蚀制备NCD薄膜的机理。分析表明,基底的平滑度对O2的刻蚀作用起到重要的影响;在平滑的基底上,含量较少的O2的刻蚀作用也很明显;随着基底的平滑度下降,混合气氛中O2的刻蚀作用逐渐减弱。
- 熊瑛杨保和吴小国孙大智李明洪松
- 关键词:O2
- 金刚石/硅复合膜的导热特性研究被引量:6
- 2007年
- 用金刚石粉,用不同时间在两片镜面抛光的(111)硅基片上分别打磨。两片硅基片打磨后都仍保持镜面特征。采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷和氧气为前驱气体,在同样参数条件下,在基片上制备了直径5cm的金刚石薄膜。用扫描电镜和X射线衍射分析两片薄膜结构。分析结果表明其表面形貌基本相同都为(111)择优取向的金刚石薄膜;但X射线衍射分析表明打磨时间较长的薄膜中含有一定量在非晶成分。用热导测试仪测试两薄膜和硅基片的热导率约为:241.7W/mK,192.9W/mK和169.3W/mK。结合扫描电镜和X射线衍射分析结果我们讨论了基底处理对金刚石/硅复合膜的导热特性的影响。
- 吴小国熊瑛杨保和李翠平孙大智李晓伟
- 关键词:金刚石热导率