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对GaN薄膜不同腐蚀方法的腐蚀坑的研究(英文)被引量：1: 2004年; 用 Thom as Swan公司的 MOCVD系统在蓝宝石 (0 0 0 1)面上生长了高质量的 Ga N薄膜 .采用多种化学腐蚀方法 ,如熔融 KOH ,H3PO4 与 H2 SO4 混合酸和 HCl气相腐蚀法 ,利用 SEM及 TEM技术对 Ga N薄膜中的位错进行了研究 .SEM显示在 Ga N薄膜相同位置处 ,不同腐蚀法所得的腐蚀坑的形态和密度有明显差别 .结果表明 HCl气相腐蚀可以显示纯螺位错、纯刃位错和混合位错 ;H3PO4 与 H2 SO4 混合酸腐蚀可以显示纯螺位错和混合位错 ;而熔融; 陆敏常昕方慧智杨志坚杨华黎子兰任谦张国义章蓓; 关键词：氮化镓

用微结构压印提高GaN基发光二极管的输出光强被引量：1: 2007年; 为了进一步提高GaN基发光二极管(LED)的出光效率,针对倒装焊GaN基发光二极管提出了一个在蓝宝石衬底出光面上引入二维微纳米阵列结构的新构想.根据这一构想,将微结构图形化压印和发光器件的封装有机地结合起来,利用一种简易可行的纳米压印-热硬化性聚合物压印技术,成功地制备出了带有微米级阵列超薄封装结构的LED.结果表明,这种带有微结构阵列LED的输出光强得到了明显增强,1mm×1mm大管芯GaN LED在350mA的直流电注入下的光功率比无微结构的LED提高了60%.这一成功为提高发光二极管的出光强度提供了一个有效的新途径.; 包魁章蓓代涛康香宁陈志忠王志敏陈勇; 关键词：GAN基发光二极管出光效率纳米压印技术微结构

AlGaN/GaN/InGaN对称分别限制多量子阱激光器的优化设计(英文): 2004年; 采用一维传递矩阵法模拟计算了 Al Ga N/Ga N/In Ga N对称分别限制多量子阱激光器 (发射波长为 396 .6 nm)的波导特性 .以光限制因子、阈值电流密度和功率效率作为优化参量 ,获得激光器的优化结构参数为 :3周期量子阱In0 .0 2 Ga0 .98N/In0 .1 5Ga0 .85N(10 .5 nm/3.5 nm)作为有源层 ,90 nm In0 .1 Ga0 .9N为波导层 ,12 0周期 Al0 .2 5Ga0 .75N/Ga N(2 .5 nm /2 .5 nm ); 陆敏方慧智张国义; 关键词：MQW SCH

InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱中应变对光致发光特性的影响: 2006年; 对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生较小的蓝移,而InGaN/AlGaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生明显的红移;喇曼光谱的结果表明,激光剥离前后E2模的峰值从569.1减少到567.5cm-1.这说明激光剥离去除衬底使得外延层整体的压应力得到部分释放,但InGaN/GaN与InGaN/AlGaN多量子阱结构中阱层InGaN的应力发生了不同的变化.XRD的结果证实了这一结论.; 于彤军; 关键词：光致发光谱 INGAN ALGAN 多量子阱

Optimization of gallium nitride-based laser diode through transverse modes analysis: 2007年; We investigate the transverse mode pattern in GaN quantum-well (QW) laser diode (LD) by numerical calculation.We optimize the current GaN LD structure by varying the n-GaN layer thickness.The n-type GaN layer is an important factor to determine the optical mode.Finally,we discuss the lasing performance of the GaN LD based on the transverse optical modes.; Xiaomin Jin章蓓Liang Chen代涛张国义; 关键词：激光二极管量子结构

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国家自然科学基金(60276034)