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国家自然科学基金(2013304)

作品数:6 被引量:32H指数:3
相关作者:蒋晓东陈习权祖小涛任寰李珂更多>>
相关机构:中国工程物理研究院电子科技大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国工程物理研究院预先研究基金国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 4篇电子电信

主题

  • 2篇信号
  • 2篇信号测量
  • 2篇热扩散率
  • 2篇激光
  • 1篇等离子体
  • 1篇氧化硅
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇实时信号
  • 1篇损伤形貌
  • 1篇透过率
  • 1篇透镜
  • 1篇热冲击
  • 1篇热透镜
  • 1篇热吸收
  • 1篇温度场
  • 1篇相位
  • 1篇膜层
  • 1篇激光预处理
  • 1篇光学

机构

  • 4篇中国工程物理...
  • 3篇电子科技大学
  • 1篇四川大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 4篇蒋晓东
  • 3篇祖小涛
  • 3篇任寰
  • 3篇陈习权
  • 2篇吕海兵
  • 2篇李珂
  • 2篇黄祖鑫
  • 1篇何钱军
  • 1篇魏芸
  • 1篇钟伟
  • 1篇刘春明
  • 1篇郑万国
  • 1篇叶琳
  • 1篇唐灿
  • 1篇王汝笠
  • 1篇林理彬

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇物理学报
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇光学与光电技...
  • 1篇西华大学学报...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
反射式热透镜时变信号测量固体热扩散率的研究被引量:1
2005年
介绍了采用反射式热透镜时变信号测量固体热扩散率的一种简便方法,该方法结合表面热透镜技术原理,采用表面透镜的动态变化和反射的探测光发散的幅度来确定固体的热扩散率,相对于传统的热扩散率测量方法要快捷简单。对较大范围的一系列物质的热学特性进行了实验研究,证明了其实用性。
陈习权祖小涛蒋晓东郑万国任寰黄祖鑫
关键词:实时信号热透镜热扩散率
高功率激光宽光谱减反膜的溶胶-凝胶旋转法制备工艺被引量:7
2003年
 采用溶胶 凝胶法用旋转镀膜工艺在K9玻璃基片上制备出了SiO2和有机硅单层减反膜以及有机硅 SiO2双层减反膜。考察了旋转速度对SiO2和有机硅单层膜的中心透射波长、膜层折射率等基本光学性质的影响,实验确定了双层膜的涂敷工艺。透射光谱测量表明,采用本文工艺条件制备的有机硅 SiO2双层膜在430~800nm范围内透射率达99%以上。
魏芸吕海兵蒋晓东唐灿任寰李珂
关键词:溶胶-凝胶法高功率激光SIO2二氧化硅
氧等离子体清洗对sol-gel薄膜透过率的影响
2005年
利用高频激发氧等离子体对solgel薄膜(旋转单面单层SiO2膜)进行清洗处理,并对清洗前后的样品进行时间不等的处理,发现样品在清洗后,透过率曲线向短波长方向移动,并且透过率峰值增加。随着存放时间的变化,透过率曲线也变化。在存放20天后膜层透过率曲线峰值和位置不再变化。
何钱军林理彬蒋晓东任寰黄祖鑫
关键词:等离子体SOL-GEL透过率
单层SiO_2物理膜与化学膜激光损伤机理的对比研究被引量:19
2006年
采用离子束溅射沉积技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了厚度相近的SiO2单层介质膜,用表面热透镜技术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试,结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测,对相同基底、相同膜层材料而采用不同方法镀制的光学膜层,发现化学膜的强激光损伤阈值远高于相应物理膜;从热力学响应及膜层特性差异的角度揭示了化学膜层的强激光损伤阈值远高于相应物理膜层的微观机理,即物理膜具有高吸收下的致密膜层快传导的基底热冲击效应,而化学膜则有低吸收下的疏松空隙填充慢传导的延缓效应,大量的实验数据及现象都证实了这一结论.
陈习权祖小涛郑万国蒋晓东吕海兵任寰张艳珍刘春明
关键词:损伤形貌热冲击热吸收
采用干涉型光热位移相位信号测量薄膜热扩散率被引量:1
2007年
介绍了待测样品在激光辐照下光热位移信号的理论表达式,阐述了信号相位与热扩散率以及调制频率之间的关系;基于该关系并结合相关资料,提出了一种新的采用迈克尔干涉检测装置测量热扩散率的简便方法,分析了其相对于传统测量方法的优势.采用该装置对Ti及TiO2复合薄膜样品进行了测量,由光热位移相位信号与调制频率之间的关系,计算得到了待测样品的热扩散率.
陈习权王汝笠祖小涛蒋晓东郑万国
关键词:热扩散率温度场
激光预处理对光学元件膜层性能的影响被引量:6
2004年
 激光预处理是使膜层提高损伤阈值的一种有效手段,现在流行的激光预处理机理模型之一是缺陷消除模型。实验从对元件膜层激光预处理前后各项参数的对比出发,分析了激光预处理对膜层的影响,说明了光学元件膜层激光预处理的过程,是对膜层去除缺陷、固化、洁净的过程。
黄祖鑫蒋晓东任寰钟伟叶琳李珂吕海兵
关键词:激光预处理
共1页<1>
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