搜索到 篇“ EUVL “的相关文章

相关作者

林强
作品数:5被引量:14H指数:2
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题:EUVL 极紫外投影光刻 磁控溅射 均匀性 离轴照明
金春水
作品数:356被引量:268H指数:8
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题:光学元件 极紫外 多层膜 极紫外光刻 面形
曹健林
作品数:49被引量:186H指数:8
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
研究主题:软X射线 多层膜 极紫外投影光刻 集成电路 磁控溅射
李艳秋
作品数:440被引量:334H指数:11
供职机构:北京理工大学
研究主题:掩模 极紫外光刻 光源 光刻系统 投影物镜
向鹏
作品数:8被引量:23H指数:3
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题:残余应力 多层膜 MO/SI多层膜 EUVL 极紫外投影光刻